[发明专利]具有高精度的平坦度的保持垫在审
| 申请号: | 201410538867.2 | 申请日: | 2014-10-13 |
| 公开(公告)号: | CN105269451A | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
| 发明(设计)人: | 姜东烨;崔洪德;安炯一;徐呈旼;张容源;朴寅慧 | 申请(专利权)人: | 大元化成株式会社 |
| 主分类号: | B24B37/27 | 分类号: | B24B37/27;H01L21/304 |
| 代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;刘铮 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及在对如玻璃衬底、晶片的平板型被抛光产品进行抛光时将被抛光产品支承并固定在平台上的保持垫,尤其是通过使分布有微小直径的微小发泡(4)的上部支承层(3)横跨聚氨酯垫的50%的区域形成,并且使位于聚氨酯垫的厚度的60至90%的区域的下部缓冲层(5)中具有比上部支承层(3)的微小发泡(4)的直径相对大数十倍的巨大发泡(6),从而提高了保持垫的整体压缩性和压缩回复率,因此具有高精度的平坦度。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 高精度 平坦 保持 | ||
【主权项】:
一种保持垫,所述保持垫具有通过湿式凝固法对聚氨酯组成物成型的聚氨酯泡沫垫,其特征在于,所述聚氨酯泡沫垫包括:上部支承层,分布有微小发泡,并且支承被抛光物;以及下部缓冲层,位于所述上部支承层的下部,并且分布有具有比所述微小发泡的直径大数倍至数百倍的直径的巨大发泡,其中,所述上部支承层被设置在从所述聚氨酯泡沫垫的表面层至整体厚度的50%以下的区域中,所述下部缓冲层在所述上部支承层的下部被设置成横跨所述聚氨酯泡沫垫的整体厚度的60至90%的区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大元化成株式会社,未经大元化成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410538867.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。





