[发明专利]具有高精度的平坦度的保持垫在审
| 申请号: | 201410538867.2 | 申请日: | 2014-10-13 |
| 公开(公告)号: | CN105269451A | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
| 发明(设计)人: | 姜东烨;崔洪德;安炯一;徐呈旼;张容源;朴寅慧 | 申请(专利权)人: | 大元化成株式会社 |
| 主分类号: | B24B37/27 | 分类号: | B24B37/27;H01L21/304 |
| 代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;刘铮 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 高精度 平坦 保持 | ||
技术领域
本发明涉及在对如玻璃衬底、晶片等的平板型被抛光产品进行抛光时将被抛光产品支承并固定到平台上的保持垫。
背景技术
因为如用于LCD的玻璃衬底、半导体晶片等的产品需要厚度的高精度,所以通常使用抛光垫或者抛光布对其表面进行精密抛光。如上所述,当对被抛光产品进行表面抛光时,使用将被抛光产品支承在抛光装置的平台上的保持垫。这种保持垫要求具有高精度的平坦度以对被抛光产品进行高精度表面抛光。
如下面的专利文献1中所公开的那样,传统的保持垫通常在厚度方向上横跨整体地形成发泡。在这种情况下,为了提高缓冲性而增大发泡的大小时,发泡的大小将膨胀至表面附近,从而导致了强度降低。当缓冲性低时,被抛光物的支承应力的变化将变大,从而使得对于抛光表面的抛光量不均匀,由此导致了被抛光产品被抛光后的厚度不均匀,即,导致产品的平坦度不良的问题。
相反,在缓冲性高时,虽然因为被抛光物的支承应力的变化小而能够解决被抛光产品的表面的抛光量部分地不均匀的问题,但是因强度和耐磨性被恶化而导致了保持垫自身部分地脱离,因此最终导致了表面的平坦度被恶化的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:KR10-1277296B1
发明内容
为此,本发明是为了解决上述传统的保持垫所存在的问题而提出的,其目的在于提供通过改善发泡形状和发泡层的分布而具有高精度的平坦度的保持垫。
用于实现上述目的的本发明涉及具有通过湿式凝固法对聚氨酯组成物成型的聚氨酯泡沫垫的保持垫,其特征在于,所述聚氨酯泡沫垫包括上部支承层和下部缓冲层,其中所述上部支承层分布有微小发泡并且支承被抛光物,所述下部支承层位于所述上部支承层的下部并且分布有具有比微小发泡的直径大数倍至数百倍的直径的巨大发泡,所述上部支承层设置在从聚氨酯泡沫垫的表面层至整体厚度的50%以下的区域中,所述下部缓冲层在所述上部支承层的下部被设置成横跨所述聚氨酯泡沫垫的整体厚度的60至90%的区域。
本发明的保持垫通过在湿式凝固时将表面皮膜凝固速度调节成比下部的树脂凝固速度相对快而使得所述下部缓冲层的巨大发泡的平均直径对于所述上部支承层的微小发泡的平均直径的比例为10至100。
此外,在本发明的保持垫中,聚氨酯树脂组成物通过预聚物聚合法聚合以容易调节内部的硬段与软段的排列。
根据如上述构成的本发明,分布有微小直径的发泡的上部支承层被形成为横跨聚氨酯垫的厚度的50%的区域,因此相对地增大上部支承层的强度和耐磨性从而能够维持优秀的平坦度,与此同时,下部缓冲层中具有比上部支承层的微小发泡的直径相对大数十倍的巨大发泡,从而改善了保持垫的整体压缩性和压缩回复率。
此外,在本发明中,因为表面皮膜凝固速度相对比下部皮膜凝固速度快,所以在表面层中相对迅速地构成水与树脂组成物内的有机溶剂(DMF)的置换,从而使微小发泡有效地形成在上部支承层中,相反地,未在表面层中与水置换的残留的树脂组成物的有机溶剂在被偏重至垫的下部侧后一次性地与水急剧置换,从而形成直径巨大的巨大发泡,由此获得了优秀的缓冲层。
此外,本发明使用通过预聚物法聚合的树脂,因此能够快速调节表面皮膜凝固速度,从而能够容易将微小发泡的上部支承层实现在厚度的50%以内的区域中。
附图说明
图1是根据本发明的第一实施例的使用通过预聚物法聚合的树脂通过湿式凝固法成型的保持垫的剖面电子显微镜照片;
图2是根据第一比较例的保持垫的剖面照片;
图3是根据本发明的第二实施例的保持垫的剖面照片;以及
图4是根据第二比较例的保持垫的剖面照片。
具体实施方式
下面,将参照附图对根据本发明的保持垫的优选实施例进行详细说明。
图1是根据本发明的保持垫的剖面电子显微镜照片。如图1所示,本发明的保持垫包括聚氨酯泡沫垫1。聚氨酯泡沫垫1具有将被抛光物支承在上部的上部支承层3和形成在所述上部支承层下部的下部缓冲层5。
所述上部支承层3中均匀地分布有微小直径的微小发泡4,形成有该微小发泡的上部支承层3形成在从聚氨酯泡沫垫1的表面至整体厚度的50%以下的区域。所述下部缓冲层5具有巨大发泡6,巨大发泡6具有微小发泡4的平均直径的10至100倍的平均直径。此外,这种下部缓冲层5形成在从所述上部支承层3的下端至泡沫垫1的整体厚度的60至90%的区域。
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