[发明专利]等离子体化学气相沉积装置

摘要

本发明涉及等离子体化学气相沉积装置，可提高电感耦合方式的等离子体化学气相沉积装置的生产率。等离子体化学气相沉积装置包括：腔室；保持搬运部，在腔室内，保持作为处理对象的基板，并沿着搬运路径相对搬运；至少一个电感耦合型天线，以与搬运路径相向的方式设置于腔室内，而且卷绕数小于一圈；高频电力供给部，用于向至少一个电感耦合型天线供给高频电力；以及气体导入部，用于向腔室内导入规定的气体。然后，等离子体化学气相沉积装置在从气体导入部向腔室内导入规定的气体的状态下，从高频电力供给部向至少一个电感耦合型天线供给高频电力来产生等离子体，从而借助保持搬运部沿着搬运路径来搬运基板。

主权项

一种等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，包括：腔室，保持搬运部，在上述腔室的内部，保持作为处理对象的基板，并沿着搬运路径相对搬运，至少一个电感耦合型天线，以与上述搬运路径相向的方式设置于上述腔室的内部，而且卷绕数小于一圈，高频电力供给部，用于向上述至少一个电感耦合型天线供给高频电力，以及气体导入部，用于向上述腔室的内部导入规定的气体；在从上述气体导入部向上述腔室的内部导入上述规定的气体，并从上述高频电力供给部向上述至少一个电感耦合型天线供给高频电力来产生等离子体的状态下，借助上述保持搬运部沿着上述搬运路径来搬运上述基板。