[发明专利]等离子体化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，

包括：

腔室，

保持搬运部，在上述腔室的内部，保持作为处理对象的基板，并沿着搬运路径相对搬运，

至少一个电感耦合型天线，以与上述搬运路径相向的方式设置于上述腔室的内部，而且卷绕数小于一圈，

高频电力供给部，用于向上述至少一个电感耦合型天线供给高频电力，以及

气体导入部，用于向上述腔室的内部导入规定的气体；

在从上述气体导入部向上述腔室的内部导入上述规定的气体，并从上述高频电力供给部向上述至少一个电感耦合型天线供给高频电力来产生等离子体的状态下，借助上述保持搬运部沿着上述搬运路径来搬运上述基板。

2.根据权利要求1所述的等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，

具有：与上述搬运路径相向，并沿着上述搬运路径的方向设置于上述腔室的内部，而且卷绕数小于一圈的至少一个电感耦合型天线；

在相对于上述至少一个电感耦合型天线的搬运路径的上游侧和下游侧分别设置分隔部件，上述分隔部件用于将上述腔室的内部的处理空间分隔为上述搬运路径的上游侧的空间和下游侧的空间。

3.根据权利要求1所述的等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，

具有：与上述搬运路径相向，并沿着与上述搬运路径的方向交叉的规定的虚拟轴在上述腔室的内部排列成一列，而且卷绕数小于一圈的多个电感耦合型天线；

使连接上述多个电感耦合型天线各自的两端部而得的线段的中心点配置于上述虚拟轴上，使得上述多个电感耦合型天线沿着上述虚拟轴排列成一列。

4.根据权利要求3所述的等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，沿着上述虚拟轴设置的多个电感耦合型天线各自的两端部配置于上述虚拟轴上。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，还包括至少一个磁场产生部，上述至少一个磁场产生部用于在上述腔室内的处理空间产生磁场。

6.根据权利要求5所述的等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，

具有：与上述搬运路径相向，并沿着与上述搬运路径的方向交叉的规定的虚拟轴在上述腔室的内部排列成一列，而且卷绕数小于一圈的至少一个电感耦合型天线；

具有磁场产生部，上述磁场产生部用于在上述腔室内的处理空间中的至少一部分空间产生磁场；

上述至少一部分空间包括特定空间：该特定空间是指，相对于上述至少一个电感耦合型天线的两端部中的不与另一电感耦合型天线相邻的一端部，位于与另一端部相反的一侧的空间。

7.根据权利要求5所述的等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，

具有：以与上述搬运路径相向的方式设置于上述腔室的内部，而且卷绕数小于一圈的至少一个电感耦合型天线；

具有磁场产生部，上述磁场产生部用于在上述腔室内的处理空间的至少一部分空间产生磁场；

上述至少一部分空间包括位于上述至少一个电感耦合型天线的两端部分之间的空间。

8.根据权利要求5所述的等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，

具有：与上述搬运路径相向，并沿着与上述搬运路径的方向交叉的规定的虚拟轴在上述腔室的内部排列成一列，而且卷绕数小于一圈的多个电感耦合型天线；

具有磁场产生部，上述磁场产生部用于在上述腔室内的处理空间中的至少一部分空间产生磁场；

上述至少一部分空间包括位于上述多个电感耦合型天线中的相邻的电感耦合型天线之间的空间。

9.根据权利要求5所述的等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，

上述至少一个磁场产生部为电磁铁；

还包括：

电流供给部，以能够变更的方式向上述至少一个磁场产生部的线圈供给电流，以及

控制部，用于控制上述电流供给部供给的电流。