[发明专利]一种阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置

摘要

本发明公开了一种阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置，在形成黑矩阵的图形之前，先在衬底基板上形成包围对位标记的限制层，且限制层的材料为负性光刻胶材料。而负性光刻胶材料的表面能一般均比较低，低表面能材料具有疏水、疏油的性能。因此，本发明实施例提供的上述制备方法，利用限制层的疏水、疏油的性能，使在形成限制层的衬底基板上形成黑矩阵时，黑矩阵材料会与限制层之间形成清晰的边界，从而显示出对位标记的位置，有利于在形成黑矩阵时曝光装置进行对位，并且，还可以防止黑矩阵污染导致的对位异常，从而可以达到在不改变黑矩阵材料和曝光装置的基础上提高阵列基板中黑矩阵的图形与前序工艺形成的图形的对位精度的目的。

主权项

一种阵列基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成对位标记的图形；在所述衬底基板上包围所述对位标记所在的区域的预设区域内形成限制层的图形，且所述限制层的图形包围所述对位标记的图形，所述限制层的材料为负性光刻胶材料；在形成有所述限制层的衬底基板上形成黑矩阵的图形，所述黑矩阵的图形所在的区域与所述限制层和所述对位标记的图形所在的区域无重合区。