[发明专利]处理杯清洗方法、基板处理方法以及基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201410493907.6 申请日: 2014-09-24
公开(公告)号: CN104992897B 公开(公告)日: 2018-01-05
发明(设计)人: 樋口鲇美;吉住明日香 申请(专利权)人: 斯克林集团公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/67
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 宋晓宝,向勇
地址: 日本国京*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于,提供一种能够在宽范围且良好地对处理杯的内壁进行清洗的处理杯清洗方法,并且提供一种能够防止或抑制颗粒的发生并能够使用处理液良好地对基板实施处理的基板处理装置以及基板处理方法。处理杯清洗方法包括旋转工作步骤,在基板旋转单元上保持有基板的状态下,使基板旋转单元进行旋转动作;清洗液供给步骤,与所述旋转工作步骤并行地执行,向所述基板的上表面以及下表面都供给清洗液,使从所述基板的周缘部飞散的清洗液着落在所述处理杯的所述内壁,以向所述处理杯的所述内壁供给清洗液;飞散方向变更步骤,与所述旋转工作步骤以及所述清洗液供给步骤并行地执行,对从所述基板的周缘部飞散的清洗液的方向进行变更。
搜索关键词: 处理 清洗 方法 以及 装置
【主权项】:
一种处理杯清洗方法,对处理杯进行清洗,该处理杯具有以包围基板旋转单元的周围的方式配置的内壁,用于捕获从通过所述基板旋转单元旋转的所述基板飞散的处理液,所述基板旋转单元用于将所述基板保持为水平姿势,并使该基板围绕规定的旋转轴线旋转,其特征在于,包括:旋转工作步骤,在所述基板旋转单元上保持有基板的状态下,使所述基板旋转单元进行旋转动作;清洗液供给步骤,与所述旋转工作步骤并行地执行,向所述基板的上表面以及下表面都供给清洗液,使从所述基板的周缘部飞散的清洗液着落在所述处理杯的所述内壁,以向所述处理杯的所述内壁供给清洗液;飞散方向变更步骤,与所述旋转工作步骤以及所述清洗液供给步骤并行地执行,对从所述基板的周缘部飞散的清洗液的方向进行变更,所述飞散方向变更步骤包括对向所述基板的上表面以及下表面供给的清洗液的流量比进行变更的流量比变更步骤。
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