[发明专利]处理杯清洗方法、基板处理方法以及基板处理装置

权利要求书

1.一种处理杯清洗方法，对处理杯进行清洗，该处理杯具有以包围基板旋转单元的周围的方式配置的内壁，用于捕获从通过所述基板旋转单元旋转的所述基板飞散的处理液，所述基板旋转单元用于将所述基板保持为水平姿势，并使该基板围绕规定的旋转轴线旋转，其特征在于，包括：

旋转工作步骤，在所述基板旋转单元上保持有基板的状态下，使所述基板旋转单元进行旋转动作；

清洗液供给步骤，与所述旋转工作步骤并行地执行，向所述基板的上表面以及下表面都供给清洗液，使从所述基板的周缘部飞散的清洗液着落在所述处理杯的所述内壁，以向所述处理杯的所述内壁供给清洗液；

飞散方向变更步骤，与所述旋转工作步骤以及所述清洗液供给步骤并行地执行，对从所述基板的周缘部飞散的清洗液的方向进行变更，

所述飞散方向变更步骤包括对向所述基板的上表面以及下表面供给的清洗液的流量比进行变更的流量比变更步骤。

2.如权利要求1所述的处理杯清洗方法，其特征在于，所述飞散方向变更步骤包括对所述基板旋转单元的旋转动作的工作速度进行变更的工作速度变更步骤。

3.如权利要求1或2所述的处理杯清洗方法，其特征在于，在所述清洗液供给步骤中被供给清洗液的所述基板是处理对象的基板。

4.如权利要求1或2所述的处理杯清洗方法，其特征在于，在所述清洗液供给步骤中被供给清洗液的所述基板是仿真基板。

5.一种基板处理方法，

包括：

基板旋转步骤，使被基板旋转单元保持为水平姿势的基板旋转，

处理液供给步骤，与所述基板旋转步骤并行地执行，向所述基板的上表面以及下表面都供给处理液；

通过执行所述处理液供给步骤，从所述基板的周缘部飞散的处理液被处理杯的以包围所述基板旋转单元的周围的方式配置的内壁捕获，而被供给到该内壁，通过向所述内壁供给处理液来对该内壁进行清洗，

该基板处理方法还包括飞散方向变更步骤，该飞散方向变更步骤与所述基板旋转步骤以及所述处理液供给步骤并行地执行，对从所述基板的周缘部飞散的处理液的方向进行变更，

所述飞散方向变更步骤包括对向所述基板的上表面以及下表面供给的清洗液的流量比进行变更的流量比变更步骤。

6.一种基板处理装置，

具有：

基板旋转单元，用于将基板保持为水平姿势，并使该基板围绕规定的旋转轴线旋转；

处理液供给单元，向通过所述基板旋转单元旋转的所述基板供给处理液；

处理杯，具有以包围所述基板旋转单元的周围的方式配置的内壁，用于捕获从被所述基板旋转单元保持的所述基板飞散的处理液；

清洗液上表面供给单元，用于向通过所述基板旋转单元旋转的基板的上表面供给清洗液；

清洗液下表面供给单元，用于向通过所述基板旋转单元旋转的所述基板的下表面供给清洗液；

清洗液流量比调整单元，用于对从所述清洗液上表面供给单元以及所述清洗液下表面供给单元供给的所述清洗液的流量比进行调整；

清洗液供给控制单元，对所述基板旋转单元、所述清洗液上表面供给单元以及所述清洗液下表面供给单元进行控制，使被所述基板旋转单元保持的所述基板旋转，并且向所述基板的上表面以及下表面都供给清洗液，使从所述基板的周缘部飞散的清洗液着落在所述处理杯的所述内壁，以向所述处理杯的所述内壁供给清洗液；

飞散方向变更控制单元，对所述基板旋转单元的旋转速度以及所述清洗液流量比调整单元中的至少一个进行控制，来对从所述基板的周缘部飞散的清洗液的方向进行变更，

所述飞散方向变更控制单元对所述清洗液流量比调整单元进行控制，执行对向所述基板的上表面以及下表面供给的清洗液的流量比进行变更的流量比变更步骤。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板旋转单元具有：

旋转基座，能够围绕所述旋转轴线旋转；

多个基板保持构件，设置在所述旋转基座的周缘部，与所述基板的周端面抵接来保持所述基板。