[发明专利]干蚀刻清洗剥离防护液在审
| 申请号： | 201410457140.1 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN104195576A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 曹大妹 | 申请（专利权）人： | 昆山欣谷微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/00 | 分类号： | C23G1/00;C23F4/00 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 215341 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及干蚀刻清洗剥离防护液，主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成，其中，各组份之间的比例为乙醇胺：氨基酸：有机溶剂=20～30：0.1～10：65～75。本发明所述干蚀刻清洗剥离防护液的有益效果主要有：在干蚀刻清洗剂或剥离液中可以很简单地消除或减少铝金属的腐蚀，而且不会对环境造成不良影响，同时配方简单，易混合，而且成本低廉，使用温度易控。经试验，该干蚀刻清洗剥离防护液安全无毒，即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀，又可以达到环保要求，同时配方简单，易混合，而且成本低廉，使用温度易控。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 清洗 剥离 防护 | ||
【主权项】：
干蚀刻清洗剥离防护液，主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成，其中，各组份之间的比例为乙醇胺：氨基酸：有机溶剂=20～30：0.1～10：65～75。
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