[发明专利]干蚀刻清洗剥离防护液在审
| 申请号： | 201410457140.1 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN104195576A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 曹大妹 | 申请（专利权）人： | 昆山欣谷微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/00 | 分类号： | C23G1/00;C23F4/00 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 215341 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 清洗 剥离 防护 | ||
【权利要求书】：
1.干蚀刻清洗剥离防护液，主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成，其中，各组份之间的比例为乙醇胺：氨基酸：有机溶剂=20～30：0.1～10：65～75。
2.根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液，其特征在于所述有机溶剂为一种或两种有机溶剂混合组成。
3.根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液，其特征在于所述有机溶剂为二甲基亚砜。
4.根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液，其特征在于所述有机溶剂为二乙二醇丁醚。
5.根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液，其特征在于所述氨基酸为油酸。
6.据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液，其特征在于所述干蚀刻清洗剥离防护液的使用温度为50℃～90℃。
7.干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法，包括以下步骤：1、制备混合溶剂，将一或两种溶剂放入混合槽；2、添加乙醇胺，在步骤1中的混合溶剂中边通风搅拌边加入乙醇胺；3、添加氨基酸，在步骤2中的混合溶液中加入氨基酸，继续通风搅拌30分钟；4、将步骤2中的混合溶液经过0.2μm过滤。
8.根据权利要求7所述干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法，其特征在于所述步骤1、步骤2、步骤3均在非金属单一材质的混合槽中进行。
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