[发明专利]TEM放大率校准方法及用于校准的样品的形成方法

摘要

一种TEM放大率校准方法及用于放大率校准的样品的形成方法，其中校准方法包括：样品包括：衬底、位于衬底上的至少三层石墨烯层，石墨烯层厚度方向为第一方向；下层的石墨烯层在第二方向具有伸出上层石墨烯层外的凸出部分，顶层石墨烯层和所有凸出部分在第二方向的宽度w0相等；利用待校准TEM测量样品上两点之间的测试宽度w1，两点所在直线平行于第二方向，w1/w0的值m为大于1的整数；找到两点沿第一方向对应的最上方两边界，利用待校准TEM测量两边界之间的测试高度h1；计算得到待校准放大率f1和测试放大率f2的比值为：f1/f2＝(m*h0)/h1。本发明的样品能够长期使用，具有较长使用寿命，降低了成本。

主权项

1.一种TEM放大率校准方法，所述TEM具有至少一待校准放大率，其特征在于，包括：提供样品，所述样品包括：衬底、位于所述衬底上的至少三层叠置的石墨烯层，所述石墨烯层厚度方向为第一方向；在所有相互接触的两层石墨烯层中，下层的石墨烯层在第二方向具有伸出上层石墨烯层外的凸出部分，顶层石墨烯层和所有凸出部分在第二方向的宽度w0相等，所述w0大于单层石墨烯层的厚度h0；每一待校准放大率f1的校准方法包括：利用所述待校准的TEM测量样品上两点之间的测试宽度w1，所述两点所在直线平行于所述第二方向，以顶层石墨烯层沿第二方向背向凸出部分的侧面为界，所述两点位于样品具有凸出部分一侧，w1/w0的值m为大于1的整数；找到样品上所述两点沿第一方向分别对应的最上方的两边界，利用所述待校准的TEM测量所述两边界之间的测试高度h1；计算得到待校准放大率f1和测试放大率f2的比值为：f1/f2＝(m*h0)/h1。