[发明专利]封装结构的制法有效

专利信息
申请号: 201410421722.4 申请日: 2014-08-25
公开(公告)号: CN105405775B 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 陈彦亨;詹慕萱;纪杰元 申请(专利权)人: 矽品精密工业股份有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L21/60
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种封装结构的制法,先提供一包覆至少一电子元件的封装层,再形成一定型层于该封装层上,且该定型层具有开口,之后形成通孔于该开口中的封装层的第一表面上,最后形成导电体于该通孔中,以藉由该定型层的设计,能避免该通孔的孔形变形。
搜索关键词: 封装 结构 制法
【主权项】:
1.一种封装结构的制法,包括:提供一包覆至少一电子元件的封装层,其中,该封装层具有相对的第一表面及第二表面,该电子元件具有相对的作用面与非作用面,且该电子元件嵌埋于该封装层中;形成一金属定型层于该封装层的第一表面上,且该金属定型层具有至少一开口,以令该封装层的部分第一表面外露于该开口;以激光方式形成连通该封装层的第一及第二表面的至少一通孔,且该金属定型层吸收激光的热效应,其中,该通孔形成于对应该开口处;以及形成导电体于该通孔中。
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