[发明专利]一种减少管理者终端机的运算需求的晶片缺陷管理的方法无效
申请号: | 201410406875.1 | 申请日: | 2014-08-19 |
公开(公告)号: | CN105374661A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 何阳;米奇 | 申请(专利权)人: | 西安慧泽知识产权运营管理有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/66 |
代理公司: | 西安利泽明知识产权代理有限公司 61222 | 代理人: | 段国刚 |
地址: | 710075 陕西省西安市高新区高*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开一种减少管理者终端机的运算需求的晶片缺陷管理的方法,其包含有,进行一检测步骤,于一伺服主机中进行一数据预先处理步骤,以根据该晶片缺陷分布数据经整合转换后,依新增缺陷点的分布位置与各缺陷点的型态及大小而以该伺服主机绘制一对应的图形文件,使该图形文件可用图形画面的形式呈现该晶片上各芯片缺陷点的各类分布型态,以及进行一网络管理步骤。本发明大量减少处理晶片缺陷数据的时间及复杂度,改善半导体制造工艺的成品率,并可将多个晶片同时显示,以提供管理者针对特定晶片批号或制造工艺步骤来比较分析每个晶片的缺陷分布情况。 | ||
搜索关键词: | 一种 减少 管理者 终端机 运算 需求 晶片 缺陷 管理 方法 | ||
【主权项】:
一种减少管理者终端机的运算需求的晶片缺陷管理的方法,其特征在于,其包含有:进行一检测步骤,以对各晶片上的各个芯片分别进行缺陷检测并产生对应的晶片缺陷原始数据;于一伺服主机中进行一数据预先处理步骤,以根据同一晶片的各芯片所对应的晶片缺陷原始数据整合转换产生一晶片缺陷分布数据,以记录该晶片上各缺陷点的分布位置与各缺陷点的型态及大小;于该伺服主机中进行一图形预先处理步骤,以根据该晶片缺陷分布数据经整合转换后,依新增缺陷点的分布位置与各缺陷点的型态及大小而以该伺服主机绘制一对应的图形文件,使该图形文件可用图形画面的形式呈现该晶片上各芯片缺陷点的各类分布型态;以及进行一网络管理步骤,以将该图形文件传输至一终端机,使该终端机可以不用接收所述晶片缺陷原始数椐即可根椐该图形文件而将该晶片上各芯片缺陷点的分布型态以图形画面的形式呈现予该终端机的使用者。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造