[发明专利]半导体结构有效

专利信息
申请号: 201410401581.X 申请日: 2014-08-14
公开(公告)号: CN105336741B 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 胡志玮;叶腾豪 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11582 分类号: H01L27/11582
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种半导体结构,该半导体结构包括:导电条纹、导电层、第一介电层与一第二介电层。第一介电层介于交错配置的导电条纹与导电层之间。第二介电层不同于第一介电层,并与第一介电层邻接在导电条纹的同一侧壁的不同位置上。本发明提供的半导体结构,具有较稳定的结构特征,不容易发生形变的问题,且产品可靠性高。
搜索关键词: 介电层 半导体结构 导电条纹 导电层 产品可靠性 交错配置 邻接 形变
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:导电条纹;导电层;第一介电层,介于交错配置的该导电条纹与该导电层之间;以及第二介电层,不同于该第一介电层,并与该第一介电层邻接在该导电条纹的同一侧壁的不同位置上;其中,该导电条纹具有厚度不同且相邻接的第一导电部分与第二导电部分,该第一介电层邻接在该第一导电部分,该第二介电层邻接在该第二导电部分。
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