[发明专利]一种折射率连续可调的透明膜层材料的制备方法在审
| 申请号: | 201410390311.3 | 申请日: | 2014-08-11 |
| 公开(公告)号: | CN104195530A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
| 发明(设计)人: | 王广才;赵广澍;张晓丹;赵颖 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
| 主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
| 代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
| 地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | 一种折射率连续可调透明膜层材料的制备方法,步骤如下:将正硅酸乙酯、氨水、无水乙醇和去离子水混合,磁力搅拌后制得低折射率前驱液A;将钛酸丁酯、乙酰丙酮、无水乙醇和去离子混合,磁力搅拌后制得高折射率前驱液B;将前驱液A和前驱液B按照不同体积比混合,磁力搅拌后制得镀膜前驱液C;采用镀膜法在衬底上利用镀膜前驱液C制备折射率为1.2-2.3的透明膜层,退火后即可制得目标物透明膜层材料。本发明的优点是:该制备方法通过控制两种高、低折射率镀膜前驱液的混合比例,即可获得介于高、低两种折射率之间的折射率任意连续可调的膜层;所用的衬底材料可以是任意大小、任意形状和任意材质的固体以及任意半导体或光学器件的界面。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 折射率 连续 可调 透明 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种折射率连续可调透明膜层材料的制备方法,其特征在于:通过制备两种高、低折射率的前驱液,控制两种高、低折射率镀膜前驱液的混合比例,获得不同折射率的膜层,并通过改变混合比例可调节膜层的折射率值,包括如下步骤:1)将正硅酸乙酯、氨水、无水乙醇和去离子水按照体积比为3:1‑4:150‑250:1‑6混合,然后在磁力搅拌机上连续搅拌至少10个小时,获得含Si低分子、粘度值为1.2‑3.0mPa·s的低折射率前驱液A;2)将钛酸丁酯、乙酰丙酮、无水乙醇和去离子按照体积比为1:0.5‑1.5:20‑60:0.5‑1.5混合,然后在磁力搅拌机上连续搅拌至少5个小时,得到含Ti低分子、粘度值为1.3‑2.0mPa·s的高折射率前驱液B;3)将前驱液A和前驱液B按照体积比为0‑10:1混合,在磁力搅拌机上连续搅拌至少5个小时,得到粘度值为1.4~6.0mPa·s、折射率为1.2‑2.3的镀膜前驱液C;4)采用镀膜法在玻璃、硅片、塑料、陶瓷或金属衬底上,利用镀膜前驱液C制备折射率为1.2‑2.3、厚度为10‑500纳米的透明膜层,退火后即可制得目标物透明膜层材料。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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