[发明专利]一种基板制作方法、平台和基板有效
| 申请号： | 201410384175.7 | 申请日： | 2014-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN104166311B | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 方群;查长军;汪栋;郭杨辰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基板制作方法、平台和基板，所述方法包括用光刻胶在基板上形成预定图案的步骤，在基板上形成预定图案之前，所述方法包括：通过介质生成装置生成作用介质；利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基板上，使得所述基板在第一区域对所述光刻胶的附着力高于在第二区域对所述光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基板上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基板上需要形成预定图案之外的区域。本发明使得光刻胶在基板不同区域上的附着力存在差异，降低显影强度，进而提高基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作方法 平台 | ||
【主权项】：
1.一种基板制作方法，所述方法包括用光刻胶在基底上形成预定图案的步骤，其特征在于，在基底上形成预定图案之前，所述方法包括：通过介质生成装置生成作用介质；利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基底上，使得所述基底在第一区域对所述光刻胶的附着力高于在第二区域对所述光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基底上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基底上需要形成预定图案之外的区域。
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