[发明专利]一种基板制作方法、平台和基板

说明书

本发明提供了一种基板制作方法、平台和基板，所述方法包括用光刻胶在基板上形成预定图案的步骤，在基板上形成预定图案之前，所述方法包括：通过介质生成装置生成作用介质；利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基板上，使得所述基板在第一区域对所述光刻胶的附着力高于在第二区域对所述光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基板上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基板上需要形成预定图案之外的区域。本发明使得光刻胶在基板不同区域上的附着力存在差异，降低显影强度，进而提高基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度。

技术领域

本发明涉及液晶领域，尤其涉及一种基板制作方法、平台和基板。

背景技术

目前的基板制作工艺主要包括：清洗—涂布—曝光—显影。

其中清洗主要指通过大气压等离子体(Atmospheric-Pressure Plasma，APP)方式对基板表面进行处理，水洗干燥等。目前APP主要有以下两种方法:

<方式一>臭氧氧化处理方式

这种方式主要是利用APP设备电离出臭氧离子，通过臭氧离子对基板上表面进行扫描试的氧化处理；再用去离子水或药液进行冲洗，洗去玻璃表面的氧化物和油渍。

<方式二>紫外线UV照射表面处理方式

如图1所示，基板1按图1中箭头所示的方向通过产生紫外线的UV扫描杆2。

以上两种方法都是对整张基板表面进行处理。主要目的是去除基板表面的氧化物，以及增大玻璃表面和光刻胶之间的接触附着力。

但是无论采用臭氧氧化处理还是UV照射方式对基板进行清洗，都是对整张玻璃基板的表面进行了处理。在后续显影时，光刻胶需要洗掉的部分和需要留在玻璃基板上的部分对玻璃的附着力是一样的，这样会造成需要比较大的显影强度，进而使得基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度均变得比较差。本发明主要是针对UV照射方式提出的解决方案。

发明内容

本发明的目的是提供一种基板制作方法、平台和基板，使得光刻胶在基板不同区域上的附着力存在差异，降低显影强度，进而提高基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度。

为了实现上述目的，本发明实施例提供了一种基板制作方法，所述方法包括用光刻胶在基板上形成预定图案的步骤，在基板上形成预定图案之前，所述方法包括：

通过介质生成装置生成作用介质；

利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基板上，使得所述基板在第一区域对所述光刻胶的附着力高于在第二区域对所述光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基板上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基板上需要形成预定图案之外的区域。

上述的基板制作方法，其中，所述遮挡装置为掩膜板。

上述的基板制作方法，其中，所述作用介质为紫外线；

所述利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基板上具体为：

利用生成的紫外线通过掩膜板的透光区域照射在所述基板上。

上述的基板制作方法，其中，所述遮挡装置的透光区域与所述第一区域相对应。

上述的基板制作方法，其中，所述遮挡装置的遮光区域与所述第二区域相对应。

上述的基板制作方法，其中，所述基板为彩膜基板。

在彩膜基板制作过程中，可以直接利用光刻胶形成预定图案的有色像素或黑矩阵。因此，适用于本发明提供的上述方法。

上述的基板制作方法，其中，所述基板为阵列基板。