[发明专利]一种基板制作方法、平台和基板有效
| 申请号： | 201410384175.7 | 申请日： | 2014-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN104166311B | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 方群;查长军;汪栋;郭杨辰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制作方法 平台 | ||
1.一种基板制作方法，所述方法包括用光刻胶在基底上形成预定图案的步骤，其特征在于，在基底上形成预定图案之前，所述方法包括：
通过介质生成装置生成作用介质；
利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基底上，使得所述基底在第一区域对所述光刻胶的附着力高于在第二区域对所述光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基底上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基底上需要形成预定图案之外的区域。
2.如权利要求1所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮挡装置为掩膜板。
3.如权利要求2所述的基板制作方法，其特征在于，所述作用介质为紫外线；
所述利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基底上具体为：
利用生成的紫外线通过掩膜板的透光区域照射在所述基底上。
4.如权利要求3所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮挡装置的透光区域与所述第一区域相对应。
5.如权利要求3所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮挡装置的遮光区域与所述第二区域相对应。
6.如权利要求1-5任一项所述的基板制作方法，其特征在于，所述基板为彩膜基板。
7.如权利要求1-5任一项所述的基板制作方法，其特征在于，所述基板为阵列基板。
8.一种使用权利要求1-7任一项所述的基板制作方法制作的基板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410384175.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种多光源大视场拼接照明系统
- 下一篇：上屏信息的获取方法及装置
