[发明专利]一种基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置。根据本发明的优选实施例的基板处理装置，可包括：第一室，其具有以水平状态输送基板的第一输送单元及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并输送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并输送所述基板的第三输送单元。

主权项

1.一种基板处理装置，包括：第一室，其具有通过水平设置的水平框架以水平状态搬送基板的第一输送单元，及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一角度间进行转换，并搬送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一角度和第二角度之间进行转换，并搬送所述基板的第三输送单元，其中，所述第二输送单元包括：沿所述第一方向排列的多个输送轴；以及框架，其固定结合在所述输送轴两端，从上部观察时沿所述第一方向设置，用于支撑所述输送轴，其中，所述框架包括：第一倾斜框架，其一端以所述第一角度倾斜配置；及第一倾斜变换框架，其配置于所述水平框架和所述第一倾斜框架之间，能够使输送框架的上端从所述水平状态倾斜变换为所述第一角度。