[发明专利]一种基板处理装置及基板处理方法

说明书

本发明提供一种基板处理装置。根据本发明的优选实施例的基板处理装置，可包括：第一室，其具有以水平状态输送基板的第一输送单元及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并输送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并输送所述基板的第三输送单元。

技术领域

本发明涉及一种处理基板的基板处理装置及使用基板处理装置的基板处理方法。

背景技术

本发明涉及一种处理基板的装置，尤其涉及一种用于晶片或平板显示元件制造的对基板等进行清洗的装置及方法。

近来，信息处理仪器高速发展，即具有多种形态的功能及更快速的信息处理速度。这种信息处理装置具有显示被操作的信息的显示面板(displaypanel)。到目前为止，显示面板主要采用阴极射线管(cathode ray tube)显示器，但最近随着技术的高速发展，例如具有轻便、所占空间小等优点的液晶显示器(LCD)的平板显示面板的使用急速增加。

制造平板显示面板需要多种工艺。这些工艺中的清洗工艺作为清除附着在基板上的例如颗粒等污染物的工艺，为了使薄膜晶体管等元件的损失降至最小化并提高收率而执行。此时，在清洗室内，在基板向一方向输送的过程中对其施以工艺处理，而为了去除基板上残留的例如显影液的化学制品或有助于纯水去除，基板以倾斜状态进行输送。但是将残留有显影液的以水平状态输送的基板迅速转变为倾斜状态时，基板上会出现斑渍，发生液斑现象。

发明内容

本发明要解决的技术问题

本发明一目的在于提供一种能够提高基板显影及清洗效率的基板处理方法。

本发明要解决的技术问题并不局限于上述技术问题中，对没有言及的技术问题，本发明所属技术领域的具有通常知识的技术人员可以通过本说明书及附图清楚地理解。

技术方案

另外本发明提供一种基板处理方法。本发明一实施例的基板处理装置，可包括：第一室，其具有以水平状态输送基板的第一输送单元及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并输送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并输送所述基板的第三输送单元。

所述第一输送单元包括：沿所述第一方向排列的多个输送轴；及框架，其固定结合在所述输送轴两端，从上部观察时沿所述第一方向设置，用于支撑所述输送轴。其中，所述框架可以为上端水平设置的框架。

所述第二输送单元包括：沿所述第一方向排列的多个输送轴；及框架，其固定结合在所述输送轴两端，从上部观察时沿所述第一方向设置，用于支撑所述输送轴。其中，所述框架包括：第一倾斜框架，其上端以所述第一角度倾斜配置；及第一倾斜变换框架，其配置于所述水平框架和所述第一倾斜框架之间，能够使所述输送框架的上端从所述水平状态倾斜变换为所述第一角度。

所述第三输送单元包括，沿所述第一方向排列的多个输送轴；及框架，其固定结合在所述输送轴两端，从上部观察时沿所述第一方向设置，用于支撑所述输送轴。其中，所述框架包括：第二倾斜框架，其上端以所述第二角度倾斜配置；及第二倾斜变换框架，其配置于所述第一倾斜框架和所述第二倾斜框架之间，能够使所述输送框架的上端从所述第一角度倾斜变换为所述第二角度。

所述第三室还包括向所述基板上供给第二液体的第三喷嘴。