[发明专利]半导体设备腔室状态显示控制的方法及装置

摘要

本发明公开了一种半导体设备腔室状态显示控制的方法及装置。其中方法包括如下步骤：在上位机界面上显示用于显示腔室状态的矩形框，其中，矩形框中包括多个表示槽位的矩形条；接收半导体设备腔室中晶圆的状态信息，并根据状态信息设置表示相应槽位的矩形条的显示状态；接收表示槽位的矩形条的矩形条选中信息，并根据矩形条选中信息确定进行工艺加工过程的晶圆。其界面显示简洁清楚，且在确定JOB过程中可通过选取矩形框中表示槽位的矩形条来选择相应的晶圆，效率高，提高了半导体设备整体生产效率。

主权项

1.一种半导体设备腔室状态显示控制的方法，其特征在于，包括以下步骤：在上位机界面上显示用于显示腔室状态的矩形框，其中，所述矩形框中包括多个表示槽位的矩形条；接收半导体设备腔室中晶圆的状态信息，并根据所述状态信息设置表示相应槽位的矩形条的显示状态；接收所述表示槽位的矩形条的矩形条选中信息，并根据所述矩形条选中信息确定进行工艺加工过程的晶圆；其中，所述根据所述状态信息设置表示相应槽位的矩形条的显示状态，包括以下步骤：根据所述状态信息，判断半导体设备腔室的槽位中是否存在晶圆，并得到第一判断结果；根据所述第一判断结果，对所述半导体设备腔室中没有晶圆的槽位，在对应矩形条的左右两侧分别设置一条横线，其中，左侧和右侧的横线在同一直线且上不相连；根据所述第一判断结果，对所述半导体设备腔室中有晶圆的槽位，在对应矩形条设置一条连接左侧和右侧的横线；并使用不同颜色标注有晶圆的槽位中晶圆的不同状态。