[发明专利]溅射系统以及使用该系统制造显示器件的方法

摘要

溅射系统包括腔室、多个靶和衬底支架。靶被设置在腔室中。每个靶包括设置在其中的磁铁单元。衬底支架被配置在所述腔室中支承衬底。磁铁单元被配置成在靶之间生成磁场。磁铁单元中每个包括设置成两排的磁铁。

主权项

1.一种溅射系统，包括：腔室；第一靶，设置在所述腔室中，所述第一靶包括设置在其中的第一磁铁单元；第二靶，设置在所述腔室中，所述第二靶包括设置在其中的第二磁铁单元；以及衬底支架，配置成在所述腔室中支承衬底，其中，所述第一磁铁单元包括第一磁铁和第二磁铁，所述第二磁铁单元包括第三磁铁和第四磁铁，所述第一磁铁设置在所述第二磁铁与所述第二靶之间，所述第三磁铁设置在所述第四磁铁与所述第一靶之间，所述第一磁铁、所述第二磁铁、所述第三磁铁以及所述第四磁铁在第一方向上纵向延伸，并且，在所述第一方向上，所述第一磁铁和所述第三磁铁的长度比所述第二磁铁和所述第四磁铁的长度短，其中，所述第一磁铁单元和所述第二磁铁单元被配置成在所述第一靶和所述第二靶之间生成磁场，以及其中，所述磁场包含绕着所述第一磁铁和所述第三磁铁的闭环环形路径。