[发明专利]阵列基板的制作方法及设备有效
| 申请号: | 201410338911.5 | 申请日: | 2014-07-16 |
| 公开(公告)号: | CN104134631B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
| 发明(设计)人: | 黎午升 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L21/67;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明提供了一种阵列基板的制作方法及设备,属于平板显示技术领域。其中,阵列基板的制作方法包括:对基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置以及对位位置进行疏油处理;在经过疏油处理的基板表面涂覆亲油性的不透光感光材料。本发明的技术方案能够解决在COA工艺中需手动清洗阵列基板上栅金属层的对位标记部分对应的BM材料的问题,进而提高显示面板的产能和良率。 | ||
| 搜索关键词: | 阵列 制作方法 设备 | ||
【主权项】:
一种阵列基板的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:对基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置以及对位位置进行疏油处理;在经过疏油处理的基板表面涂覆亲油性的不透光感光材料;所述对基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置以及对位位置进行疏油处理包括:在所述基板的所述边缘位置以及所述对位位置上涂覆疏油药液;所述在所述基板的所述边缘位置以及所述对位位置上涂覆疏油药液包括:使所述基板沿辊轮传输,所述辊轮与所述基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置接触,所述辊轮的表面涂覆有疏油药液,当所述辊轮通过转动带动所述基板运动时,将自身表面涂覆的疏油药液涂覆在所述边缘位置上;所述基板将要涂覆不透光感光材料的表面上方设置有吸收有疏油药液的清洗头,所述辊轮通过转动带动所述基板运动,在所述基板运动到所述清洗头位于所述对位位置正上方时停止,控制所述清洗头与所述对位位置相接触,以便所述清洗头将疏油药液涂覆在所述对位位置上,之后控制所述清洗头与所述对位位置脱离接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





