[发明专利]阵列基板的制作方法及设备

说明书

技术领域

本发明涉及平板显示技术领域，特别是指一种阵列基板的制作方法及设备。

背景技术

随着技术的发展，平板显示装置已取代笨重的CRT(Cathode Ray Tube，阴极射线管)显示装置成为目前的主流显示装置。目前，常用的平板显示装置包括LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示装置)和OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光二极管)显示装置。

液晶显示装置包括阵列基板、彩膜基板和液晶层，其中，彩膜基板是液晶显示装置的主要组成部分，用于实现彩色画面的显示。早期制造液晶显示装置的技术中，彩膜层与作为驱动开关的薄膜晶体管形成在不同基板上，并分别位于液晶层两侧，然而这种配置方式会因为两基板对位偏差(Ass’y margin)造成显示面板的开口率降低，进而影响显示面板的亮度与画面品质。由于近年来，市场上对显示面板的开口率及亮度的要求提高，业界为应市场需求进而开发出一种彩膜层直接形成在阵列基板上(Color filter On Array，简称COA)的技术，即将彩膜层和薄膜晶体管形成在一块基板上，如此不仅可以提升显示面板的开口率，增加显示面板的亮度，而且避免了将彩膜层和薄膜晶体管形成在不同基板上所衍生的问题。

不采用COA技术时，彩膜层与作为驱动开关的薄膜晶体管形成在不同基板上，并分别位于液晶层两侧，它们被分别制作，薄膜晶体管阵列基板的制作一般首先通过曝光设备自身的对位标记形成gate(栅金属)层及其对位标记，后面在进行每一层的曝光时都是由曝光设备与gate层的对位标记进行精确对位之后再曝光；彩膜基板的制作一般先在玻璃基板背面沉积一层透明的ITO膜，然后通过曝光设备自身的对位标记形成BM(黑矩阵)层及其对位标记，后面的每一层在进行曝光时都是由曝光设备与BM层的对位标记进行精确对位之后再曝光。

当采用COA技术时，由于BM要做在薄膜晶体管阵列基板上，在阵列基板上涂覆BM材料之后，进行曝光时曝光设备需要先与gate层的对位标记进行精确对位之后再曝光，但由于BM材料是不透光的，因此曝光设备将无法找到gate层的对位标记进行对位。目前的解决办法是手动清洗阵列基板上gate对位标记部分对应的BM材料，把gate对位标记露出来，从而实现对位，但是这种方法效率低下，易受人为因素干扰，对显示面板的产能和良率都有影响。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种阵列基板的制作方法及设备，能够解决在COA工艺中需手动清洗阵列基板上栅金属层的对位标记部分对应的BM材料的问题，进而提高显示面板的产能和良率。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种阵列基板的制作方法，所述制作方法包括：

对基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置以及对位位置进行疏油处理；

在经过疏油处理的基板表面涂覆亲油性的不透光感光材料。

进一步地，所述对基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置以及对位位置进行疏油处理包括：

在所述基板的所述边缘位置以及所述对位位置上涂覆疏油药液。

进一步地，所述疏油药液包括全氟辛酸盐分散液。

进一步地，所述在所述基板的所述边缘位置以及所述对位位置上涂覆疏油药液包括：

使所述基板沿辊轮传输，所述辊轮与所述基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置接触，所述辊轮的表面涂覆有疏油药液，当所述辊轮通过转动带动所述基板运动时，将自身表面涂覆的疏油药液涂覆在所述边缘位置上；

所述基板将要涂覆不透光感光材料的表面上方设置有吸收有疏油药液的清洗头，所述辊轮通过转动带动所述基板运动，在所述基板运动到所述清洗头位于所述对位位置正上方时停止，控制所述清洗头与所述对位位置相接触，以便所述清洗头将疏油药液涂覆在所述对位位置上，之后控制所述清洗头与所述对位位置脱离接触。

进一步地，所述在经过疏油处理的基板表面涂覆亲油性的不透光感光材料包括：

在经过疏油处理的基板表面涂覆不透光的亲油性光刻胶。

本发明实施例还提供了一种阵列基板的制作设备，所述制作设备包括：

疏油处理装置，用于对基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置以及对位位置进行疏油处理；

涂覆装置，用于在经过疏油处理的基板表面涂覆亲油性的不透光感光材料。

进一步地，所述疏油处理装置用于在所述基板的所述边缘位置以及所述对位位置上涂覆疏油药液。