[发明专利]OPC修正方法有效
| 申请号： | 201410331704.7 | 申请日： | 2014-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN104090467B | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 王丹;于世瑞;毛智彪;张瑜 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种OPC修正方法，先在金属线及通孔布图上将连接相同两根金属线且间距小于等于通孔最小设计规则的1.5倍的通孔合并，再进行常规的OPC修正。由于合并的是连接相同两根金属线的通孔，即同电位通孔，并不会造成电路的短路，而且合并通孔的做法能在增大工艺窗口的同时，可以降低电路中的电阻，提高电路的响应频率。用合并通孔的方法增大通孔，解决了在后续的常规OPC修正中易导致光刻工艺窗口过小的问题。 | ||
| 搜索关键词： | opc 修正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种OPC修正方法，包括以下步骤：提供一金属线和通孔布图，所述金属线和通孔布图包括多层金属线以及连接分别位于不同层中的两根金属线的通孔；将连接相同两根金属线且间距小于等于通孔最小设计规则的1.5倍的通孔合并；以及对所述金属线和通孔布图进行OPC修正。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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