[发明专利]一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法

摘要

一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法，该方法包括以下步骤：（1）通过旋转涂布法制备周期性排列高分子纳米球的单层模板；（2）反应性离子刻蚀，获得刻蚀后的单层模板；（3）通过定向性闭合场非平衡磁控溅射离子镀系统对步骤（2）中的刻蚀后的单层模板进行溅射沉积；（4）通过湿刻蚀方法除去高分子纳米球，获得具有金属纳米环结构的单层模板；（5）将步骤（4）中获得的单层模板用于发光器件中，其特征在于，所述反应性离子刻蚀分两次进行，其中第一次刻蚀功率为50w~60w，时间为5分钟~7分钟；所述第二次刻蚀功率为30w~40w，时间为4分钟~12分钟；所用的刻蚀气体为氧气。本发明制备工艺简单，可控性强，简单的控制合成工艺中的一些关键工艺参数即可获得具有不同出光效率尺寸的金属纳米环结构，并且工艺过程具有很高的可重复性。

主权项

一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法，该方法包括以下步骤：（1）通过旋转涂布法制备周期性排列高分子纳米球的单层模板；（2）反应性离子刻蚀，获得刻蚀后的单层模板；（3）通过定向性闭合场非平衡磁控溅射离子镀系统对步骤（2）中的刻蚀后的单层模板进行溅射沉积；（4）通过湿刻蚀方法除去高分子纳米球，获得具有金属纳米环结构的单层模板；（5）将步骤（4）中获得的单层模板用于发光器件中，其特征在于，所述反应性离子刻蚀分两次进行，其中第一次刻蚀功率为50w~60w，时间为5分钟~7分钟；所述第二次刻蚀功率为30w~40w，时间为4分钟~12分钟；所用的刻蚀气体为氧气。