[发明专利]一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法

权利要求书

1.一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法，该方法包括以下步骤：（1）通过旋转涂布法制备周期性排列高分子纳米球的单层模板；（2）反应性离子刻蚀，获得刻蚀后的单层模板；（3）通过定向性闭合场非平衡磁控溅射离子镀系统对步骤（2）中的刻蚀后的单层模板进行溅射沉积；（4）通过湿刻蚀方法除去高分子纳米球，获得具有金属纳米环结构的单层模板；（5）将步骤（4）中获得的单层模板用于发光器件中，其特征在于，所述反应性离子刻蚀分两次进行，其中第一次刻蚀功率为50w~60w，时间为5分钟~7分钟；所述第二次刻蚀功率为30w~40w，时间为4分钟~12分钟；所用的刻蚀气体为氧气。

2.根据权利要求1所述的一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法，其特征在于，所述步骤（1）中旋转涂布机的转速为300 rpm~1200 rpm，转动时间4分钟。

3.根据权利要求2所述的一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法，其特征在于，所述步骤（3）中溅射靶材是Cr金属，模板和靶之间的距离为150 mm，溅射腔体的基础压力抽至1.5×10^-5 torr，基板偏压为-70V，Cr靶电流1A，生长速率为0.13纳米/秒。

4.根据权利要求3所述的一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法，其特征在于，所述步骤（4）湿刻蚀方法分三次进行，其中第一次刻蚀液体为二氯甲烷，第二次刻蚀液体为丙酮，第三次刻蚀液体为乙醇，每次刻蚀时间为10分钟。

5.根据权利要求4所述的一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法，其特征在于，所述步骤（5）中制作发光器件时所用的发光层材料为三(8-羟基喹啉)铝。

6.根据权利要求1至5任一项所述的一种提高金属纳米环结构可控出光效率的方法，其特征在于，所述高分子纳米球所用材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯中的一种。