[发明专利]厚度变化测量装置及其方法在审
| 申请号： | 201410313661.X | 申请日： | 2014-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN104947040A | 公开（公告）日： | 2015-09-30 |
| 发明（设计）人： | 李淳钟;禹奉周;元惷渊 | 申请（专利权）人： | 塞米西斯科株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种能够检测沉积膜的厚度的F厚度变化测量装置及其方法。所述沉积装置包括：腔室；沉积源，其位于所述腔室的内部，提供沉积物质使得基板上形成沉积膜；膜厚度判断部，其位于所述腔室的内部，被沉积提供的所述沉积物质中的一部分；光输出部，其向所述膜厚度判断部输出波长各异的光；以及光检测部，其检测被所述膜厚度判断部上的膜或所述膜厚度判断部反射的反射光，或检测透过所述膜厚度判断部的膜的透射光。本发明的厚度变化测量装置及其方法可利用波长各异的激光检测膜厚度判断部上的膜、遮罩上的膜等的厚度，并通过检测到的所述膜的厚度推算基板上的沉积膜的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 厚度 变化 测量 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种厚度变化测量装置，其特征在于，包括：腔室；沉积源，其位于所述腔室的内部，提供沉积物质使得基板上形成沉积膜；膜厚度判断部，其位于所述腔室的内部，被沉积提供的所述沉积物质中的一部分；光输出部，其向所述膜厚度判断部输出波长各异的光；以及光检测部，其检测被所述膜厚度判断部上的膜或所述膜厚度判断部反射的反射光，或检测透过所述膜厚度判断部的膜的透射光。
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