[发明专利]厚度变化测量装置及其方法

权利要求书

1.一种厚度变化测量装置，其特征在于，包括：

腔室；

沉积源，其位于所述腔室的内部，提供沉积物质使得基板上形成沉积膜；

膜厚度判断部，其位于所述腔室的内部，被沉积提供的所述沉积物质中的一部分；

光输出部，其向所述膜厚度判断部输出波长各异的光；以及

光检测部，其检测被所述膜厚度判断部上的膜或所述膜厚度判断部反射的反射光，或检测透过所述膜厚度判断部的膜的透射光。

2.根据权利要求1所述的厚度变化测量装置，其特征在于，还包括：

控制部，其根据检测到的所述反射光或透射光检测所述膜厚度判断部上的膜的厚度，并通过检测到的所述膜的厚度推算所述基板上的沉积膜的厚度，

其中所述光是激光，所述光输出部或所述光检测部位于所述腔室的外部，所述光输出部依次输出所述激光。

3.根据权利要求2所述的厚度变化测量装置，其特征在于：

所述控制部从利用第一波长的透射光的强度与第二波长的透射光的强度的利萨茹图形中提取旋转角，同时在所述激光入射的膜厚度判断部的第一位置处提取由于形成有所述膜的膜厚度判断部而相邻的光线之间的光路径差异，或在所述第一位置处提取由于形成有所述膜的膜厚度判断部的内部反射而相邻的光线之间的相位差异，并利用提取到的所述光路径差异或相位差异检测所述膜厚度判断部上的膜的厚度。

4.根据权利要求2所述的厚度变化测量装置，其特征在于，所述膜厚度判断部包括：

膜沉积部，其被沉积所述膜；

固定部，其能够旋转，用于支撑所述膜沉积部；以及

前面部，其形成有孔，排列于所述膜沉积部的前面，

其中，所述控制部在每次新的基板载入时使所述固定部旋转，以旋转所述膜沉积部，而通过所述旋转，每次新的基板载入时沉积到所述膜沉积部上的膜的位置发生改变。

5.根据权利要求2所述的厚度变化测量装置，其特征在于，所述膜厚度判断部包括：

膜沉积部，其被沉积所述膜；以及

前面部，其形成有孔，排列于所述膜沉积部的前面，

其中，所述控制部在每次新的基板载入时使所述前面部移动，而通过所述移动，每次新的基板载入时沉积到所述膜沉积部上的膜的位置发生改变。

6.根据权利要求5所述的厚度变化测量装置，其特征在于：

所述控制部在特定基板载入时检测相应激光的透射光，以推算所述基板上的沉积膜的厚度，当其他基板载入时检测相应激光的反射光，以推算所述沉积膜的厚度。

7.根据权利要求1所述的厚度变化测量装置，其特征在于：

所述厚度变化测量装置是沉积装置，所述光输出部在所述波长之间的差值小于预设值时利用一个激光装置依次输出所述波长各异的光，当所述波长之间的差值大于所述预设值时利用两个激光装置输出所述波长各异的光。

8.根据权利要求1所述的厚度变化测量装置，其特征在于：

所述膜厚度判断部及所述光检测部包括于厚度检测单元，其中所述厚度检测单元位于所述腔室的内侧，所述膜厚度判断部从所述厚度检测单元的末端露到外部，所述光检测部位于所述厚度检测单元的内侧。

9.一种厚度变化测量装置，其特征在于，包括：

腔室；

沉积源，其位于所述腔室的内部，提供沉积物质使得基板上形成沉积膜；

遮罩，其位于所述基板的前面；

遮罩支撑构件，其支撑所述遮罩；

光输出部，其向沉积在所述遮罩上的膜、沉积在所述遮罩支撑构件上的膜或所述基板上的沉积膜输出波长各异的光；以及

光检测部，其检测被沉积在所述遮罩上的膜、沉积在所述遮罩支撑构件上的膜或所述基板上的沉积膜反射的反射光，或检测透过所述基板上的沉积膜的透射光。

10.根据权利要求9所述的厚度变化测量装置，其特征在于，还包括：

控制部，其通过检测到的所述反射光或透射光检测所述基板上的沉积膜的厚度，

其中所述光是激光，所述光输出部或所述光检测部位于所述腔室的外部，所述光输出部依次输出所述激光。