[发明专利]一种SMD石英晶片尺寸修磨方法在审
申请号: | 201410251678.7 | 申请日: | 2014-06-09 |
公开(公告)号: | CN103991007A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 叶竹之;邓天将;曾小金 | 申请(专利权)人: | 成都泰美克晶体技术有限公司 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人: | 袁英 |
地址: | 610017 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及一种SMD石英晶片尺寸修磨方法,它包括以下步骤:S1、清洗:将光面研磨盘用的酒精清洗,再用无尘布擦拭光面研磨盘表面;S2、平面处理;S3、预热;S4、贴膜:取出带背胶的抛光膜,撕下背胶,并将抛光膜贴在光面研磨盘上;S5、安装光面研磨盘:将贴有抛光膜的光面研磨盘安装在研磨机上;S6、研磨加工:将待加工的SMD石英晶片所粘成的晶坨放在光面研磨盘上进行研磨,同时向SMD晶坨与光面研磨盘的接触面上喷洒砂液,按照尺寸加工要求研磨成型;S7、清洗:将研磨后的SMD晶坨用清水冲洗干净,晾干。本发明的优点在于:能明显改善石英晶片外观缺陷、能有效地预防尺寸修磨过低和研磨机使用寿命长。 | ||
搜索关键词: | 一种 smd 石英 晶片 尺寸 方法 | ||
【主权项】:
一种SMD石英晶片尺寸修磨方法,其特征在于:它包括以下步骤:S1、清洗:将光面研磨盘用浓度为75%~80%的酒精清洗,再用无尘布擦拭光面研磨盘表面;S2、平面处理:光面研磨盘通过修盘机进行修磨,使得光面研磨盘的平面度≤5μm/m2;S3、预热:对光面研磨盘进行预热,使光面研磨盘表面温度达到35℃~45℃;S4、贴膜:取出带背胶的抛光膜,撕下背胶,并将抛光膜贴在光面研磨盘上;S5、安装光面研磨盘:将贴有抛光膜的光面研磨盘安装在研磨机上;S6、研磨加工:将待加工的SMD石英晶片所粘成的晶坨放在光面研磨盘上进行研磨,将研磨机转速设置为20rpm~30rpm,同时向SMD晶坨与光面研磨盘的接触面上喷洒砂液,按照尺寸加工要求研磨成型;S7、清洗:将研磨后的SMD晶坨用清水冲洗干净,晾干。
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