[发明专利]曝光方法、掩膜及芯片基板在审
| 申请号： | 201410209488.9 | 申请日： | 2014-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN104950588A | 公开（公告）日： | 2015-09-30 |
| 发明（设计）人： | 谢明富;邱俊尧;陈士棻 | 申请（专利权）人： | 新唐科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/76;H01L27/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 贾磊 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种曝光方法、掩膜以及芯片基板，该方法包括：提供一基板；在基板上形成一光刻胶层；以及通过一成像镜头将一掩膜上的多个图案成像于光刻胶层上，以对光刻胶层进行曝光。其中，掩膜具有多个芯片区，每一芯片区包括该图案，这些芯片区的这些图案彼此实质上相同，且这些芯片区的这些图案的线宽由位于掩膜的边缘往位于掩膜的中央呈现增加的趋势。一种掩膜及芯片基板亦被提出。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 芯片 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法包括：提供一基板；在该基板上形成一光刻胶层；以及通过一成像镜头将一掩膜上的多个图案成像于该光刻胶层上，以对该光刻胶层进行曝光，其中该掩膜具有多个芯片区，每一该芯片区包括该图案，所述芯片区的所述图案彼此相同，且所述芯片区的所述图案的线宽由位于该掩膜的边缘往位于该掩膜的中央呈现增加的趋势。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新唐科技股份有限公司，未经新唐科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410209488.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
