[发明专利]金刚线切割多晶硅片的电池的制作方法无效
申请号: | 201410197889.7 | 申请日: | 2014-05-12 |
公开(公告)号: | CN104009116A | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 杨红冬;张辉;刘仁中;张斌;邢国强 | 申请(专利权)人: | 奥特斯维能源(太仓)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 215434 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种金刚线切割多晶硅片的电池的制作方法,属于太阳能电池技术领域,其包括如下步骤:1)将P型多晶硅片进行预清洗去除损伤层得到去除损伤层后的硅片;2)将去除损伤后的硅片放置在制绒装置反应室干法制绒;3)在干法制绒后的硅片表面进行磷源扩散,得到磷源扩散后的硅片;4)将磷源扩散后的硅片进行湿法刻蚀,然后在其正表面PECVD沉积SiNx薄膜,得到沉积后的硅片;5)在沉积后的硅片背面分别印刷银浆、铝浆后烘干,然后在其正表面印刷正银后烧结,得到电池成品。该制作方法,提高了短波响应,提高了太阳能电池转换效率,适用范围广,电池形貌效果好,太阳能转换效率高。 | ||
搜索关键词: | 金刚 切割 多晶 硅片 电池 制作方法 | ||
【主权项】:
金刚线切割多晶硅片的电池的制作方法,其特征在于:包括如下步骤:1)将P型多晶硅片进行预清洗,表面用HNO3与HF混合溶液去除损伤层得到去除损伤层后的硅片;2)将去除损伤后的硅片放置在制绒装置反应室,通入气体SF6与O2进行干法制绒,时间为10min,得到干法制绒后的硅片;3)在干法制绒后的硅片表面进行磷源扩散,采用POCl3液态磷扩散源制备P‑N结,扩散温度830℃,时间为80min,方块电阻为60~90ohm,得到磷源扩散后的硅片;4)将磷源扩散后的硅片进行湿法刻蚀,然后在其正表面PECVD沉积SiNx薄膜,得到沉积后的硅片;5)在沉积后的硅片背面分别印刷银浆、铝浆后烘干,然后在其正表面印刷正银后烧结,得到电池成品。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥特斯维能源(太仓)有限公司,未经奥特斯维能源(太仓)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410197889.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的