[发明专利]喷嘴位置的检测方法及检测晶圆

摘要

本发明提供了一种喷嘴位置的检测方法和检测晶圆，包括：提供一基底；对所述基底进行涂胶、曝光和显影以形成检测图形，所述检测图形包括多个周期型排列的正方形的子图形；通过一清洗设备对所述基底进行清洗；对清洗后的基底进行缺陷检测以确认所述清洗设备的喷嘴是否位于中心位置。在本发明提供的喷嘴位置的检测方法中，通过在所述基底上形成特定的检测图形，并采用特定的清洗条件对所述基底进行清洗，使得清洗设备的喷嘴位置对准所述基底的中心位置时所述基底上能够形成特定形状的缺陷，从而根据所述基底上是否出现该缺陷就能够判断喷嘴是否对准所述基底的中心位置。

主权项

1.一种喷嘴位置的检测方法，其特征在于，包括：提供一基底；对所述基底进行涂胶、曝光和显影以形成检测图形，所述检测图形包括由阻挡图形区域和参考图形区域构成的多个周期型排列的正方形的子图形，所述阻挡图形区域在清洗过程中会阻挡去离子水的流动而影响显影残留物的清洗效果，所述参考图形区域在清洗过程中不会阻挡去离子水的流动而影响显影残留物的清洗效果；将一清洗设备的喷嘴对准所述基底并喷射去离子水，以对所述基底进行清洗；对清洗后的基底进行缺陷检测以确认所述清洗设备的喷嘴是否位于中心位置；当所述清洗设备的喷嘴位于中心位置时，所述基底上有4条线形缺陷，且所述4条线形缺陷位于所述检测图形的对角线上。