[发明专利]钻晶膜的镀膜方法及其设备有效
申请号: | 201410193120.8 | 申请日: | 2014-05-08 |
公开(公告)号: | CN103938163B | 公开(公告)日: | 2017-06-23 |
发明(设计)人: | 王建成 | 申请(专利权)人: | 深圳市深新隆实业有限公司 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26;C23C14/06 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所44242 | 代理人: | 李新林 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区沙井*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种钻晶膜的镀膜方法及其设备。钻晶膜的镀膜方法,包括以下步骤基片清洗;打开镀膜设备的工作仓,基片装夹于镀膜设备的镀膜架;关闭工作仓,抽真空;对靶材进行预加热,预加热至300‑500℃,预热时间为1‑2分钟;启用离子源,对基片进行离子清洗,清洗时间为3‑5分钟;对基片进行镀膜;工作仓的温度自然降温至60℃,释放真空,打开工作仓,取下基片。本发明在玻璃基片上采用镧化物作为靶材,并采用电阻式加热蒸发进行镀膜,可以提高玻璃表面抗划伤能力到8H以上,使玻璃表面硬度达到天然宝石级别,不但提高了产品寿命。并且又弥补了蓝宝石柔韧度不高、容易破碎的缺陷,而成本又有极大的降低。 | ||
搜索关键词: | 钻晶膜 镀膜 方法 及其 设备 | ||
【主权项】:
钻晶膜的镀膜设备,包括具有开口的密封腔体,所述的密封腔体联接有真空组件,所述的密封腔体内还设有蒸发源和离子源,及位于密封腔体底部的光源测试组件和设于密封腔体顶部的基片固定架以及基片加热组件;其特征在于所述的蒸发源为镧化物蒸发源,包括设于密封腔体底部的热蒸发源支杆、固定于热蒸发源支杆上端的电热板和蒸发源温度传感器,以及设于电热板上的镧化物材料;所述基片加热组件包括设于密封腔体底部的可调式加热支架,所述的加热支架上端设有加热元件和加热温度传感器,所述的加热元件四周设有可调式反光板;还包括用于驱动反光板的传动机构,可以使反光板与加热元件成不同的偏转角度,以使得加热元件与基片固定架之间的距离不同时,偏转角度也发生变化,以使热量集中辐射至基片固定架上的基片,以利于基片表面温度的控制;该传动机构包括上端与反光板连接的传动杆,传动杆的下端联接有联接板,联接板通过螺母螺杆传动副与密封腔体底部下方的角度调节电机传动联接。
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