[发明专利]基于序列线性规划的叶片点云模型截面曲线直接构造方法有效

专利信息
申请号: 201410186781.8 申请日: 2014-05-05
公开(公告)号: CN103942837B 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: 李文龙;湛红晖;李启东;严思杰 申请(专利权)人: 华中科技大学无锡研究院
主分类号: G06T17/00 分类号: G06T17/00
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 代理人: 曹祖良,韩凤
地址: 214174 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于序列线性规划的叶片点云模型截面曲线直接构造方法,其针对叶片散乱点云模型,通过数学形态学建立叶片散乱点云的拓扑结构信息,利用叶片的形状特征建立叶片截面曲线和点云模型的距离函数,得到一阶微分增量,由此建立序列线性规划的优化模型,提高叶片截面曲线的构造精度,使截面曲线的曲率分布趋于合理。本发明的方法可避免耗时严重及拓扑缺陷的三角网格化或曲面参数化,可从叶片散乱点云模型中直接构造截面曲线,提高叶片质量检测的效率。
搜索关键词: 基于 序列 线性规划 叶片 模型 截面 曲线 直接 构造 方法
【主权项】:
基于序列线性规划的叶片点云模型截面曲线直接构造方法,其特征是,包括以下步骤:S1:由形态学创建散乱点云模型的三维图像,提取截面有序点集,经能量法光顺后构建3次B样条曲线;S2:通过控制弦高将样条曲线离散为多个样点,在点云模型对应三维图像上创建每个样点的k邻域,并采用移动最小二乘法计算每个样点在点云模型上的垂足;S3:建立样条曲线和点云模型之间的距离函数,计算一阶微分增量,构建序列线性规划模型,通过规划求解得到样条曲线控制点集的微分增量;S4:将样条曲线的控制点集与微分增量相加得到新的控制点集,更新样条曲线。
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