[发明专利]一种高效多晶硅锭的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410185709.3 申请日: 2014-05-05
公开(公告)号: CN104032368A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 刘明权;王禄宝;施文周;司荣进 申请(专利权)人: 镇江环太硅科技有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 代理人: 季萍
地址: 212200 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种高效多晶硅锭的制备方法,将硅溶胶与高纯石英砂料浆混合均混合浆料,将混合浆料刷涂在多晶硅铸锭炉的坩埚的内底部形成粘结层;再将形核源刷涂在所述粘结层上形成形核源层,再在形核源层的上层及坩埚的内侧壁刷涂氮化硅涂层;向坩埚内装载固体硅料,熔化硅液;控制坩埚内部的温度梯度,使得坩埚内部形成由底部向上的垂直温度梯度,打开保温罩,使得坩埚底部温度降低,所述方法可制得转换效率高的多晶硅锭,制得的多晶硅锭晶粒细小且分布均匀,对应晶砖少子寿命高且低少子寿命杂质点少,晶界分布规则,无明显枝晶和孪晶产生。
搜索关键词: 一种 高效 多晶 制备 方法
【主权项】:
一种高效多晶硅锭的制备方法,其特征在于,所述方法步骤如下:(1)将硅溶胶与高纯石英砂料浆按5︰5-7︰3的质量比混合均匀形成混合浆料,将混合浆料刷涂在多晶硅铸锭炉的坩埚的内底部形成粘结层;(2)再将形核源刷涂或洒涂在所述粘结层上形成形核源层,所述形核源的粒度为30-100目,形核源层的厚度为1-2mm;(3)然后在500-700℃下烘干2-4h;(4)再在形核源层的上层及坩埚的内侧壁刷涂氮化硅涂层;(5)然后再在位于形核源层上方的氮化硅涂层上铺设一层形核源保护层,以防止形核源在装料过程中遭到破坏,所述形核源保护层由完整的片状废硅料铺设而成,所述保护层的厚度为1-20mm;(6)向坩埚内装载固体硅料,关闭多晶硅铸锭炉的保温罩,加热坩埚至1530-1560℃直至固体硅料完全熔化成硅液;(7)通过调整多晶硅铸锭炉的加热功率来控制坩埚内部的温度梯度,使得坩埚内部形成由底部向上的垂直温度梯度,打开保温罩,将保温罩升高5-8cm,将多晶铸锭的顶部中央区域温度(TC1)降低至1420-1432℃,使得坩埚底部温度降低,坩埚底部硅液处于过冷状态,利用形核源层形核结晶从而得到高效多晶硅锭,所述形核结晶过程中过冷度控制在‑10~‑35K。
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