[发明专利]发光二极管装置有效

专利信息
申请号: 201410172042.3 申请日: 2014-04-25
公开(公告)号: CN104124329B 公开(公告)日: 2018-03-27
发明(设计)人: 陈怡名;顾浩民;吕志强;徐子杰 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/60 分类号: H01L33/60
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种发光二极管装置,包含一发光叠层包含一第一型半导体层,一第二型半导体层,及一活性层形在第一型半导体层与第二型半导体层间且发出一光线;以及一反射结构形成于第一型半导体层上并具有一第一界面与一第二界面;其中,光线于第一界面所产生的全反射角大于光线于第二界面所产生的全反射角;及其中,反射结构与第一型半导体层于第一界面形成欧姆接触。
搜索关键词: 发光二极管 装置
【主权项】:
一种发光二极管装置,包含:发光叠层,包含第一型半导体层,第二型半导体层,及活性层形成在该第一型半导体层与该第二型半导体层间且发出一光线;以及反射结构,形成于该第一型半导体层上并具有第一界面与第二界面,该反射结构包含一透明导电层及一孔隙位于该透明导电层内;其中,该光线于该第一界面所产生的全反射角大于该光线于该第二界面所产生的全反射角;以及其中,该反射结构与该第一型半导体层于该第一界面形成欧姆接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410172042.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top