[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示装置无效
申请号: | 201410112809.3 | 申请日: | 2014-03-24 |
公开(公告)号: | CN103926743A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 谷新;铃木照晃;秦广奎;金起满;鹿岛美纪;杨亚锋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置,涉及显示领域,能够减弱反射光,提高液晶显示装置的户外可视性。本发明所述彩膜基板,包括:基板、设置在所述基板上的黑矩阵和透明导电层,所述彩膜基板满足下述中的至少一项:所述透明导电层的上方设置有透明介质层,所述透明介质层的折射率为1.5~2.0,厚度为600~1000埃;或者,所述透明导电层的下方设置有透明介质层,所述透明介质层的折射率为1.5~2.0,厚度为600~1000埃;或者,所述黑矩阵远离彩膜基板对盒面的一侧设置有介质层,所述介质层的折射率为1.5~2.0,厚度为600~1000埃。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种彩膜基板,包括:基板、设置在所述基板上的黑矩阵和透明导电层,其特征在于,所述彩膜基板满足下述中的至少一项:所述透明导电层的上方设置有透明介质层,所述透明介质层的折射率为1.5~2.0,厚度为600~1000埃;或者,所述透明导电层的下方设置有透明介质层,所述透明介质层的折射率为1.5~2.0,厚度为600~1000埃;或者,所述黑矩阵远离彩膜基板对盒面的一侧设置有介质层,所述介质层的折射率为1.5~2.0,厚度为600~1000埃。
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