[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

液晶显示器（简称LCD）具有体积小，功耗低、无辐射等特点，在显示领域占据了主导地位，然而在户外或具有强烈外界光的环境下，传统透射式液晶显示屏幕不具有可视性，无法满足正常使用。目前解决屏幕的户外可视性问题有三种方式，一是增加屏幕亮度，二是减少反射，三是采用半透半反技术（或者透射反射可切换模式）。增加屏幕亮度使耗电量大大增加，会缩短电池使用寿命或者增加能耗；防反射技术，如增加防反射膜或者采用1/4波片等；半透半反技术在户外或具有强烈外界光的环境下，采用反射显示模式，利用太阳光反射进行显示，可以有效降低功耗；在室内或弱光环境下，采用透射显示模式，利用背光源进行显示。

如图1所示，为一种现有液晶显示器的结构示意图。该液晶显示器由阵列基板10和彩膜基板20相对盒中间灌注液晶30，再贴附偏光片40形成。其中，彩膜基板20的基板21在正面（相对盒的一面）设置有黑矩阵22，基板21的背面（远离对盒面的另一侧面）设置有防静电的透明导电层23，在户外时，有较强的环境光如太阳光，黑矩阵12和透明导电层23处产生的反射光进入人眼，会影响显示装置的户外可视性。

发明内容

本发明的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，能够减弱反射光，提高液晶显示装置的户外可视性。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例提供一种彩膜基板，包括：基板、设置在所述基板上的黑矩阵和透明导电层，所述彩膜基板满足下述中的至少一项：

所述透明导电层的上方设置有透明介质层，所述透明介质层的折射率为1.5～2.0，厚度为600～1000埃；或者，

所述透明导电层的下方设置有透明介质层，所述透明介质层的折射率为1.5～2.0，厚度为600～1000埃；或者，

所述黑矩阵远离彩膜基板对盒面的一侧设置有介质层，所述介质层的折射率为1.5～2.0，厚度为600～1000埃。

可选地，所述透明介质层的厚度、折射率的取值，以及所述介质层的厚度、折射率的取值均经过优化，使得远离彩膜基板对盒面一侧的入射光的反射率最小。

优选地，所述透明介质层和/或介质层为：氮化硅层。

优选地，所述透明导电层的材质为氧化铟锡，厚度为400埃；所述透明介质层的材质为氮化硅，厚度为800埃。

优选地，所述介质层的材质为氮化硅，厚度为800埃。

优选地，所述介质层形成有与所述黑矩阵相同的图案。

可选地，所述透明导电层设置在所述基板远离对盒面的一侧，所述黑矩阵设置在所述基板靠近对盒面的一侧。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括：任意一项所述的彩膜基板。

本发明实施例还提供一种彩膜基板的制作方法，包括：

在基板上依次形成第一透明介质层、透明导电层和第二透明介质层；

在所述基板不存在膜层的另一侧形成介质层，然后在所述介质层上形成黑矩阵；

进行刻蚀，在所述介质层形成与所述黑矩阵相同的图案。

可选地，所述第一透明介质层、所述第二透明介质层均为氮化硅层，且厚度均为800埃；所述介质层为氮化硅层，厚度为800埃。

本发明实施例提供一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，在彩膜基板的透明导电层的上方和/或下方设置透明介质层，或者在黑矩阵靠近彩膜基板对盒面的一侧设置介质层，所述透明介质层和所述介质层的折射率为1.5～2.0，所述透明介质层和所述介质层的厚度为600～1000埃，可以使得远离彩膜基板对盒面一侧的入射光（即从观看面入射的光）在透明介质层和黑矩阵处的反射率减小，反射光减弱，从而可提高显示装置的户外可视性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有液晶显示器的结构示意图；

图2为设置有本发明实施例一彩膜基板的液晶显示器的结构示意图；

图3为在透明导电层上、下均设置/未设置透明介质层时彩膜基板在可见光区域的反射率对比示意图；

图4为黑矩阵处设置/未设置介质层时彩膜基板在可见光区域的反射率对比示意图；

图5为与分别与图4中曲线对应的光反射模拟示意图；