[发明专利]一种多晶硅铸锭氮化硅涂层坩埚及涂层制备方法

摘要

本发明公开了一种多晶硅铸锭氮化硅涂层坩埚及涂层制备方法，包括陶瓷坩埚本体和氮化硅涂层；所述陶瓷坩埚本体内表面上喷涂有氮化硅涂层，所述氮化硅涂层厚度为毫米量级；所述陶瓷坩埚本体为耐高温结构陶瓷预制件；所述氮化硅涂层由氮化硅粉体、高纯水和硅溶胶以一定比例配制成浆料，所述的浆料成份配比为氮化硅：硅溶胶：高纯水=1.25：1：3；所述浆料喷涂于所述坩埚内表面上，并经过烘培处理，形成牢固均匀的表面氮化硅层；本发明优化了氮化硅、硅溶胶和高纯水比例关系，通过喷涂工艺制备涂层坩埚，操作简单、烘培时间短、批量生产坩埚良品率高，粘埚比例从原来百分之一级别下降到千分之一级别，从而节约时间、减少能耗、提高生产效率。

主权项

一种多晶硅铸锭氮化硅涂层坩埚及涂层制备方法，其特征在于，包括陶瓷坩埚本体和氮化硅涂层；所述陶瓷坩埚本体为方形结构，上部开口，四角与底边经过圆角处理，四面厚度均匀相同，底部厚度厚于四面侧壁；所述陶瓷坩埚本体内部，喷涂有氮化硅涂层，所述氮化硅涂层均匀涂制在所述陶瓷坩埚本体内表面上，所述氮化硅涂层厚度为毫米量级；所述陶瓷坩埚本体为耐高温结构陶瓷预制件，经过模压成型，高温烧结固化，表面研磨加工而成；所述氮化硅涂层由氮化硅粉体、高纯水和硅溶胶以一定比例配制成浆料，所述的浆料成份配比为氮化硅：硅溶胶：高纯水=1.25：1：3；所述浆料经过喷枪喷涂于所述坩埚内表面上，并经过烘培处理，在所述的陶瓷坩埚本体内表面形成牢固的、均匀的表面氮化硅层；所述氮化硅粉体用量宜向增加用量方向优化，按照重量百分比计，所述氮化硅用量为大于24%；所述高纯水用量宜越少越有利，按照重量百分比计，所述高纯水用量为小于60%；所述硅溶胶，按照重量百分比计，所述硅溶胶用量为大于18%。