[发明专利]一种窄带隙共轭分子及其制备方法与应用无效

专利信息
申请号: 201410079507.0 申请日: 2014-03-05
公开(公告)号: CN103880849A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 赖文勇;黄维;王芳;李祥春;张燕;付钰 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: C07D487/14 分类号: C07D487/14;H01L51/46
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 胡玲
地址: 210003*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一类基于三并咔唑为给体(D)、苯噻唑或噻吩并噻唑为受体(A)的D-A-D(Donor-Accepter-Donor)窄带隙共轭分子及其制备方法;该类材料可适用于溶液法加工制膜,作为活性层材料应用于有机太阳能电池。其具有如式I的结构:其中,A为式II中的苯并噻唑(A1)或噻吩联苯并噻唑(A2、A3):R为C1-C20的烷基或烷氧基;*为连接位置;N是氮原子;S是硫原子;本发明材料表现出良好的热稳定性能、成膜稳定性和较高的载流子迁移率,和窄的光学能隙,可吸收更宽波谱范围内的太阳光,可作为活性材料广泛应用于有机太阳能电池器件。
搜索关键词: 一种 窄带 共轭 分子 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种窄带隙共轭分子,其特征在于,该材料是基于噻吩-苯噻唑的结构体系,同时以三并咔唑为端基封端,是一种典型的三并咔唑类给体(D)-受体(A)-给体(D)型共轭分子材料;该材料具有如式I的结构: 其中A为式II中的苯并噻唑(A1)或噻吩联苯并噻唑(A2或A3): 其中,R为C1-C20的烷基或烷氧基;*为连接位置;N是氮原子;S是硫原子。 
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京邮电大学,未经南京邮电大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410079507.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top