[发明专利]用于确定掩模图案的方法及信息处理装置有效
申请号: | 201410058925.1 | 申请日: | 2014-02-21 |
公开(公告)号: | CN104007608B | 公开(公告)日: | 2018-08-10 |
发明(设计)人: | 中山谅;行田裕一 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 魏小薇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种用于确定掩模图案的方法、记录介质及信息处理装置。通过使用信息处理装置来确定多个掩模的图案的方法,包括:获取关于包含多个图案元素的图案的数据;将所获取的多个图案元素分配到掩模中,将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案,并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指数的评价值。在所述方法中,基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。 | ||
搜索关键词: | 用于 确定 图案 方法 记录 介质 信息处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于通过使用信息处理装置来确定用于多个掩模的图案的方法,所述方法包括:获取关于包含多个图案元素的图案的数据;以及将所获取的多个图案元素分配到掩模中,将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案,并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离、以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指标的评价值,其中评价指标具有由所述线的角度和表示适于照射每个掩模的有效光源分布的极性的预定角度之差定义的项,其中所述预定角度具有在掩模之间不同地设置的值,其中,基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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