[发明专利]用于确定掩模图案的方法及信息处理装置

权利要求书

1.一种用于通过使用信息处理装置来确定用于多个掩模的图案的方法，所述方法包括：

获取关于包含多个图案元素的图案的数据；以及

将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离、以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指标的评价值，

其中评价指标具有由所述线的角度和表示适于照射每个掩模的有效光源分布的极性的预定角度之差定义的项，

其中所述预定角度具有在掩模之间不同地设置的值，

其中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述项具有随着连接掩模中的多个图案元素的线的角度与所述预定角度之间的差从0度增大并且接近90度而变得比0度的评价坏的评价指标的评价值。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述评价指标还包含由多个图案元素之间的最小距离定义的项。

4.如权利要求1所述的方法，其中，通过将所述评价指标定义为代价函数并且将每个掩模中的多个图案元素之间的距离和用于连接多个图案元素的线的角度的约束条件定义为混合整数规划问题，来用混合整数规划确定每个掩模的图案。

5.如权利要求1所述的方法，其中，针对其之间的距离落入预定范围内的多个图案元素的评价来计算所述评价指标的评价值。

6.如权利要求1所述的方法，其中，所述多个图案元素是用于切割衬底上所形成的线图案的图案。

7.如权利要求1所述的方法，其中，所确定的掩模图案是包含纵向对齐的多个图案元素的第一掩模图案以及包含横向对齐的多个图案元素的第二掩模图案。

8.如权利要求1所述的方法，还包括：确定在照射所确定的掩模图案中的每一个的照射光学系统的光瞳平面上所形成的光强度分布。

9.如权利要求1所述的方法，其中，通过重复改变用于将所获取的多个图案元素分配到掩模中并且将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案的分解来计算所述评价指标的评价值，并且基于通过重复改变所述分解所计算出的所述评价值来确定用于每个掩模的图案。

10.一种确定用于多个掩模的图案的信息处理装置，所述信息处理装置包括：

处理单元，被配置为：获取关于包含多个图案元素的图案的数据，将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离、以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指标的评价值，

其中评价指标具有由所述线的角度和表示适于照射每个掩模的有效光源分布的极性的预定角度之差定义的项，

其中所述预定角度具有在掩模之间不同地设置的值，

其中，所述处理单元基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。