[发明专利]多层电子元件及其制造方法在审
申请号: | 201410048012.1 | 申请日: | 2014-02-11 |
公开(公告)号: | CN104637649A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 朴成珍;曹廷昊;河永真 | 申请(专利权)人: | 三星电机株式会社 |
主分类号: | H01F17/00 | 分类号: | H01F17/00;H01F27/28;H01F41/04 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 黄志兴;李雪 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供一种多层电子元件及其制造方法。所述多层电子元件可在高频下获得高阻抗,并且可允许阻抗特性在宽频频段下增大,从而有效消除高频频段中的噪音。 | ||
搜索关键词: | 多层 电子元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种多层电子元件,该多层电子元件包括:磁体,该磁体包括通过堆叠多个第一磁性层形成的第一堆叠体和通过堆叠多个第二磁性层形成的第二堆叠体;以及内部线圈,该内部线圈形成在所述磁体中,其中,所述第二磁性层具有比所述第一磁性层更高的磁导率。
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