[发明专利]光学断层成像装置及其控制方法有效
| 申请号： | 201410042949.8 | 申请日： | 2014-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN103961062A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 小柳津圭介;青木博;坂川幸雄;吉田拓史 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00;A61B3/14;A61B3/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 曾琳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本公开内容涉及光学断层成像装置及其控制方法。一种光学断层成像装置包括：指令单元，被配置为发出关于断层图像的成像范围的大小的指令；以及控制单元，被配置为控制测量光光路长度改变单元以在指令单元的指令之后相对于物体在深度方向上执行对准，并且将测量光的光路长度改变与发出指令所关于的大小的改变相对应的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 断层 成像 装置 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种光学断层成像装置，被配置为基于来自用测量光照射的物体的返回光和与测量光相对应的参照光被组合成的光来获得所述物体的断层图像，所述光学断层成像装置包括：测量光光路长度改变单元，被配置为改变测量光的光路长度；指令单元，被配置为发出关于断层图像的成像范围的大小的指令；以及控制单元，被配置为控制所述测量光光路长度改变单元以在所述指令单元的指令之后相对于所述物体在深度方向上执行对准，并且将测量光的光路长度改变与发出指令所关于的大小的改变相对应的距离。
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