[发明专利]光学断层成像装置及其控制方法有效
申请号: | 201410042949.8 | 申请日: | 2014-01-29 |
公开(公告)号: | CN103961062A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 小柳津圭介;青木博;坂川幸雄;吉田拓史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | A61B5/00 | 分类号: | A61B5/00;A61B3/14;A61B3/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 曾琳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 断层 成像 装置 及其 控制 方法 | ||
1.一种光学断层成像装置,被配置为基于来自用测量光照射的物体的返回光和与测量光相对应的参照光被组合成的光来获得所述物体的断层图像,所述光学断层成像装置包括:
测量光光路长度改变单元,被配置为改变测量光的光路长度;
指令单元,被配置为发出关于断层图像的成像范围的大小的指令;以及
控制单元,被配置为控制所述测量光光路长度改变单元以在所述指令单元的指令之后相对于所述物体在深度方向上执行对准,并且将测量光的光路长度改变与发出指令所关于的大小的改变相对应的距离。
2.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,其中,所述测量光光路长度改变单元包括光学单元移动机构,所述光学单元移动机构被配置为相对于所述物体移动包括测量光的光路的光学单元,以及
其中,所述控制单元被配置为控制所述光学单元移动机构以在所述指令单元的指令之后相对于所述物体在深度方向上执行对准,并且将测量光的光路长度改变与发出指令所关于的大小的改变相对应的距离。
3.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,还包括显示控制单元,所述显示控制单元被配置为使得显示单元显示用于发出与断层图像的成像范围的大小的改变有关的指令的显示图样,
其中,所述指令单元被配置为根据操作单元的操作来发出关于所述改变的指令。
4.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,还包括参照光光路长度改变单元,所述参照光光路长度改变单元被配置为改变参照光的光路长度,
其中,所述控制单元被配置为根据所述指令单元的指令以联锁方式控制所述测量光光路长度改变单元和所述参照光光路长度改变单元。
5.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,还包括移动单元,所述移动单元被配置为沿着光路移动聚焦透镜,所述聚焦透镜将测量光聚焦在所述物体上,
其中,所述控制单元被配置为根据所述指令单元的指令以联锁方式控制所述测量光光路长度改变单元和所述移动单元。
6.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,还包括固视灯显示改变单元,所述固视灯显示改变单元被配置为改变固视灯的显示大小,
其中,所述控制单元被配置为根据所述指令单元的指令以联锁方式控制所述测量光光路长度改变单元和所述固视灯显示改变单元。
7.根据权利要求6所述的光学断层成像装置,其中,所述控制单元被配置为,在增大成像范围的指令被发出的情况下,以联锁方式控制所述测量光光路长度改变单元和所述固视灯显示改变单元,以增大测量光的光路长度并增大固视灯的显示大小。
8.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,还包括存储单元,所述存储单元被配置为存储指示断层图像的成像范围的大小和测量光的光路长度之间的关系的表达式和表格中的至少一者,
其中,所述控制单元被配置为根据所述指令单元的指令通过利用存储在所述存储单元中的所述至少一者来控制所述测量光光路长度改变单元。
9.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,还包括扫描单元,所述扫描单元被配置为用测量光扫描所述物体并且能够在一个方向上旋转。
10.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,还包括扫描单元,所述扫描单元被配置为用测量光扫描所述物体,
其中,所述控制单元被配置为,在测量光的光路长度的改变达到极限的情况下,改变所述扫描单元的扫描角度以改变成像范围。
11.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,其中,所述物体是被检体的眼睛。
12.一种光学断层成像装置,被配置为基于来自用测量光照射的物体的返回光和与测量光相对应的参照光被组合成的光来获得所述物体的断层图像,所述光学断层成像装置包括:
测量光光路长度改变单元,被配置为改变测量光的光路长度;
固视灯显示改变单元,被配置为改变固视灯的显示大小;
指令单元,被配置为发出关于断层图像的成像范围的大小的指令;以及
控制单元,被配置为根据所述指令单元的指令以联锁方式控制所述测量光光路长度改变单元和所述固视灯显示改变单元。
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