[发明专利]一种新型浮法抛光设备及抛光方法在审
| 申请号： | 201410020162.1 | 申请日： | 2014-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103737452A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 王成 | 申请（专利权）人： | 王成 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 郑自群 |
| 地址： | 110026 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种新型浮法抛光设备及抛光方法，解决了现有技术中经普通抛光后的光学元件表面粗糙度精度低的问题，包括以下步骤：将抛光粉加水调成抛光液，抛光液的PH值为5.5～7；把待抛光工件轻放在磨盘上，保证待抛光工件与磨盘表面相吻合；将抛光液倒入抛光盘中，抛光液将待抛光工件和磨盘下表面浸没；将抛光盘的压力设置为0.07～0.12Mpa，磨盘转速设置为10～30rpm，抛光液自动循环供给进行抛光；抛光完成后取出，清洗封装。本发明可使光学元件的表面粗糙度提高至1nm Rz～0.5nm Rz，降低成本，提高效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 抛光 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种新型浮法抛光设备，其特征在于，包括机架，所述机架上设置有用于放置抛光液的抛光盘、工件架、磨盘和工件，所述工件固定在所述工件架上方，所述抛光液将所述工件和所述磨盘下表面浸没，所述抛光盘与所述工件之间形成一层抛光液膜，所述抛光机上还设置转轴，所述转轴固定设置在所述磨盘中心，并与所述机架连接，使所述抛光盘与所述磨盘同速运转，所述抛光盘设有供液孔。
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