[发明专利]一种新型浮法抛光设备及抛光方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学零件研磨抛光领域，特别是指一种新型浮法抛光方法。

背景技术

光学零件的加工基本包括切割成型、研磨、抛光三道工序；最终的光学表面质量由抛光决定，因此抛光是最重要的工序。通常高质量光滑表面的抛光是以柏油或毛毡呢绒等纤维材料作抛光盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。

光学薄膜技术是光学领域里的一项重要组成部分，涵盖了计算机，真空技术，光电技术，材料科学等各方面领域，而光学基片的粗糙度优和差，会直接影响后一步的膜层镀制工作。光学薄膜分为单层，双层，多层等。现在随着科学的进步，已有镀制几十层至上百层的薄膜。而原有的光学抛光技术及传统设备只能解决单层，双层及多层薄膜镀制，当前因为科技的进步，社会的发展，对光学元件的表面粗糙度也提出了更高的要求。但我们现有的抛光技术及传统工艺设备，所加工光学元件的表面粗糙度很难达到现代光学，电子光学等新领域里的更高的技术要求，然而普通抛光后的光学元件，其边缘几何尺寸总不太好，经常有塌边或翘边现象；并且在高倍显微镜下可以看到表面有塑性畸变层。

发明内容

本发明提出一种新型浮法抛光方法，解决了现有技术中普通抛光方法质量差、效率低的问题。

本发明的技术方案是这样实现的：

一种新型浮法抛光设备，包括机架，机架上设置有用于放置抛光液的抛光盘、工件架、磨盘和工件，工件固定在工件架上方，抛光液将工件和磨盘下表面浸没，抛光盘与工件之间形成一层抛光液膜，抛光机上还设置转轴，转轴固定设置在磨盘中心，并与机架连接，使抛光盘与磨盘同速运转，抛光盘设有供液孔。

优选的，机架为铁质机架，并为箱体式结构。

优选的，抛光盘为金属基体表面涂覆金属锡的抛光盘，直径为600mm，厚度为20-30mm。

一种新型浮法抛光方法，包括以下步骤：

（1）将抛光粉加干净水调成抛光液，抛光粉为颗粒度为1000目的氧化铈，所述抛光液的PH值为5.5～7；

（2）把待抛光工件轻放在磨盘上，保证待抛光工件与磨盘表面相吻合；

（3）将抛光液倒入抛光盘中，抛光液将待抛光工件和磨盘下表面浸没；

（4）将抛光盘的压力设置为0.07～0.12Mpa，磨盘转速设置为10～30rpm，抛光液自动循环供给进行抛光；

（5）抛光完成后取出，清洗封装。

优选的，步骤（5）的清洗是用清水和无水乙醇混合液依次进行清洗。

优选的，在步骤（4）抛光过程中，磨盘速度成阶段递减速度运行。

本发明的有益效果为：

本浮法超光滑抛光技术就可以解决几十层，上百层薄膜的镀制难题，使生产产品时间比原来缩短3-5小时，产品合格率95%以上，比传统工艺做的产品合格率提高了20%-30%，并充分考虑到了减缓切向力，让抛光液在光学元件的抛光过程中的水解作用，在表面形成硅酸胶层，充分发挥了抛光盘膜层的化学作用，抛光剂的吸附作用。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一种新型抛光设备的平面结构示意图；

图2为本发明一种新型抛光方法的流程图。

图中：

1、机体；2抛光盘、；3、抛光液；4、抛光盘表面沟槽；5、工件；6、抛光液膜。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1所示，在对工件5如光学元件进行浮法抛光前，被加工的光学元件首先要进行预抛光，干燥，然后进行浮法抛光。