[发明专利]掩模组件及使用掩模组件的薄膜沉积方法有效
| 申请号： | 201410017383.3 | 申请日： | 2014-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN104152845B | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 高政佑 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩芳;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种掩模组件和一种使用该掩模组件的薄膜沉积方法。掩模组件包括掩模框架，掩模框架包括第一边、第二边、第三边和第四边。第一边、第二边、第三边和第四边形成矩形。矩形的内侧限定窗口。掩模框架具有设置为从矩形的至少两个角朝着窗口突出的多个基板安放部分。所述至少两个角中的两个角沿矩形的对角线方向彼此面对。掩模组件包括位于掩模组件的第一边到第四边彼此相交处的四个角。掩模包括用于沉积的多个开口。多个开口被布置为与窗口相对应。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模组件 掩模框架 薄膜沉积 开口 四边 对角线方向 彼此面对 多个基板 相交处 沉积 掩模 | ||
【主权项】：
1.一种掩模组件，所述掩模组件包括：掩模框架，包括第一边、第二边、第三边和第四边，第一边、第二边、第三边和第四边形成矩形；窗口，由矩形的内侧限定；多个基板安放部分，被构造为从矩形的至少两个角朝着窗口突出，所述至少两个角中的两个角沿矩形的对角线方向彼此面对；掩模，固定到掩模框架，掩模包括布置为与窗口相对应的多个开口，其中，基板安放部分与掩模接触。
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