[发明专利]掩模组件及使用掩模组件的薄膜沉积方法有效
| 申请号: | 201410017383.3 | 申请日: | 2014-01-15 |
| 公开(公告)号: | CN104152845B | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
| 发明(设计)人: | 高政佑 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩芳;刘灿强 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 掩模组件 掩模框架 薄膜沉积 开口 四边 对角线方向 彼此面对 多个基板 相交处 沉积 掩模 | ||
1.一种掩模组件,所述掩模组件包括:
掩模框架,包括第一边、第二边、第三边和第四边,第一边、第二边、第三边和第四边形成矩形;
窗口,由矩形的内侧限定;
多个基板安放部分,被构造为从矩形的至少两个角朝着窗口突出,所述至少两个角中的两个角沿矩形的对角线方向彼此面对;
掩模,固定到掩模框架,掩模包括布置为与窗口相对应的多个开口,
其中,基板安放部分与掩模接触。
2.如权利要求1所述的掩模组件,其中,所述多个基板安放部分的形状从由三角形、矩形、扇形和从矩形去除扇形而获得的形状组成的组中选择。
3.如权利要求1所述的掩模组件,其中,掩模框架的厚度比掩模的厚度厚。
4.如权利要求1所述的掩模组件,其中,掩模是一体型掩模或分离型掩模,在一体型掩模中,所述多个开口形成在一个金属板上,在分离型掩模中,所述多个开口分开地形成在多个金属板上。
5.如权利要求1所述的掩模组件,其中,所述多个开口形成在掩模上,使得所述多个开口不与基板安放部分叠置。
6.如权利要求1所述的掩模组件,其中,焊接部分形成在掩模的边框上,边框对应于掩模框架的各个边。
7.如权利要求6所述的掩模组件,其中,辅助焊接部分形成在掩模的一部分上,掩模的所述一部分对应于掩模框架的所述多个基板安放部分。
8.一种薄膜沉积方法,所述薄膜沉积方法包括:
准备包括第一边、第二边、第三边和第四边的掩模框架,第一边、第二边、第三边和第四边形成矩形,矩形的内侧限定窗口,掩模框架具有多个基板安放部分,所述多个基板安放部分被构造为从矩形的至少两个角朝窗口突出,所述至少两个角中的两个角沿矩形的对角线方向彼此面对;
在掩模框架上布置包括多个开口的掩模并将掩模固定到掩模框架,开口被布置为与窗口相对应;
在掩模上安放基板,使得基板的外侧被布置为与掩模框架的第一边、第二边、第三边和第四边的内侧贴合;
通过窗口和所述多个开口在基板上沉积沉积材料。
9.如权利要求8所述的薄膜沉积方法,其中,准备掩模框架的步骤包括形成基板安放部分,使得基板安放部分的形状从由三角形、矩形、扇形和从矩形去除扇形而获得的形状组成的组中选择。
10.如权利要求8所述的薄膜沉积方法,其中,准备掩模框架的步骤包括形成掩模框架,使得掩模框架的厚度比掩模的厚度厚。
11.如权利要求8所述的薄膜沉积方法,其中,固定掩模的步骤包括将掩模制备成一体型掩模或分离型掩模,在一体型掩模中,所述多个开口形成在一个金属板上,在分离型掩模中,所述多个开口分开地形成在多个金属板上。
12.如权利要求8所述的薄膜沉积方法,其中,固定掩模的步骤包括形成掩模,使得所述多个开口不与基板安放部分叠置。
13.如权利要求8所述的薄膜沉积方法,其中,固定掩模的步骤包括在掩模的边框上形成焊接部分,掩模的边框对应于掩模框架的各个边。
14.如权利要求13所述的薄膜沉积方法,其中,固定掩模的步骤包括在掩模的一部分上形成辅助焊接部分,掩模的所述一部分对应于掩模框架的所述多个基板安放部分。
15.如权利要求13所述的薄膜沉积方法,其中,安放基板的步骤包括准备基板作为用于有机发光显示装置的基板。
16.如权利要求13所述的薄膜沉积方法,其中,沉积的步骤包括准备沉积材料,所述沉积材料包括用于形成有机发光显示装置的金属层的金属材料或用于形成有机发光层的有机物。
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