[发明专利]掩模组件及使用掩模组件的薄膜沉积方法

说明书

提供了一种掩模组件和一种使用该掩模组件的薄膜沉积方法。掩模组件包括掩模框架，掩模框架包括第一边、第二边、第三边和第四边。第一边、第二边、第三边和第四边形成矩形。矩形的内侧限定窗口。掩模框架具有设置为从矩形的至少两个角朝着窗口突出的多个基板安放部分。所述至少两个角中的两个角沿矩形的对角线方向彼此面对。掩模组件包括位于掩模组件的第一边到第四边彼此相交处的四个角。掩模包括用于沉积的多个开口。多个开口被布置为与窗口相对应。

技术领域

本发明涉及一种掩模组件，更具体地说，涉及一种使用该掩模组件的薄膜沉积方法。

背景技术

在显示装置中，有机发光显示装置可以是自发光显示装置。有机发光显示装置可以具有宽的视角、优异的对比度和高的响应速度。

有机发光显示装置可以包括中间层，中间层包括位于彼此面对的电极之间的至少一层发光层。电极和中间层可以以各种方法形成，而这些方法中的一种就是沉积方法。

在一种使用沉积方法来制造有机发光显示装置的方法中，具有期望图案的薄膜可以通过制造具有与将要形成在基板上的薄膜图案相同的开口图案的掩模而形成在基板上。例如，精细金属掩模（FMM）可以与基板紧密接触，沉积材料可以通过FMM沉积在基板上。

发明内容

在将基板布置在掩模组件上的情况下，掩模框架的内侧和基板的外侧彼此叠置预定的宽度。通过将沉积材料沉积在基板上而使薄膜形成在基板上。掩模框架的内侧限定用于支撑基板的窗口。产生了宽的叠置区域，并且在增加想要实际形成在基板上的单元格（unit cell）的数量方面存在限制。

本发明构思的示例性实施例提供了一种在使掩模框架和基板之间的叠置区域最小化的同时能够增加形成在基板上的单元格的数量的掩模组件。

在本发明构思的至少一个示例性实施例中，提供了一种在使掩模框架和基板之间的叠置区域最小化的同时能够增加形成在基板上的单元格的数量的使用掩模组件的薄膜沉积方法。

在本发明构思的至少一个示例性实施例中，提供了一种掩模组件，该掩模组件包括掩模框架，掩模框架包括第一边、第二边、第三边和第四边。第一边、第二边、第三边和第四边形成矩形。矩形的内侧限定窗口。掩模框架具有多个基板安放部分。基板安放部分可以从矩形的至少两个角朝着窗口突出。所述至少两个角中的两个角沿矩形的对角线方向彼此面对。掩模组件包括掩模，掩模包括多个开口。掩模固定到掩模框架。所述多个开口被布置为与窗口相对应。

在本发明构思的示例性实施例中，提供了一种薄膜沉积方法，该薄膜沉积方法包括准备包括第一边、第二边、第三边和第四边的掩模框架。第一边、第二边、第三边和第四边形成矩形。矩形的内侧限定窗口。掩模框架具有被设置为从矩形的至少两个角朝窗口突出的多个基板安放部分。所述至少两个角中的两个角沿矩形的对角线方向彼此面对。该方法包括在掩模框架上布置包括多个开口的掩模以及将掩模固定到掩模框架。所述多个开口被布置为与窗口相对应。该方法包括在掩模上安放基板，使得基板的外侧被布置为与掩模框架的第一边、第二边、第三边和第四边的内侧贴合。该方法包括通过窗口和用于沉积的所述多个开口在基板上沉积沉积材料。

本发明构思的示例性实施例包括被设置为从至少两个角朝窗口突出的多个基板安放部分。所述至少两个角中的两个角沿矩形的对角线方向彼此面对。基板和掩模框架之间的叠置区域能够被最小化，基板能够被稳定地支撑。薄膜可以通过沉积沉积材料而形成在基板上。

根据本发明构思的示例性实施例的掩模组件可以增加将要形成在基板上的单元格的数量。

附图说明

通过参照下面结合附图考虑时进行的详细描述，本公开的更完整的理解和本公开的许多附加方面将容易获得并变得更加容易理解，其中：

图1是根据本发明构思的示例性实施例的掩模组件的透视图；